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1. (WO2018043762) DISPOSITIF DE FORMATION D'IMAGES
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N° de publication :    WO/2018/043762    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/032596
Date de publication : 08.03.2018 Date de dépôt international : 05.09.2017
CIB :
G03G 15/10 (2006.01)
Déposants : CANON KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 30-2, Shimomaruko 3-chome, Ohta-ku, Tokyo 1468501 (JP)
Inventeurs : TANAKA, Shoji; (JP)
Mandataire : YAMADA, Ryuichi; TOKO International Patent Office, Toranomon Sugai Bldg. 2F, 18-16, Toranomon 3-chome, Mintato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-172503 05.09.2016 JP
Titre (EN) IMAGE FORMATION DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE FORMATION D'IMAGES
(JA) 画像形成装置
Abrégé : front page image
(EN)A computation unit 300 finds the resistivity of a carrier liquid in a carrier tank by computation. A resistivity computation unit 302 finds the resistivity of the carrier liquid on the basis of "the liquid quantity for each number of times of passage of the carrier liquid that has passed through a separation and extraction device" and "the resistivity for each number of times of passage of the carrier liquid that has passed through the separation and extraction device". "The liquid quantity for each number of times of passage" is computed by a deterioration degree distribution computation unit 301 and stored in a memory 201. Regarding "the resistivity for each number of times of passage", the resistivity of the carrier liquid after the carrier liquid has passed through the separation and extraction device is prestored in the memory 201 for each number of times of passage. A carrier replenishment determination unit 202 determines, on the basis of the found resistivity of the carrier liquid, whether a replenishment carrier liquid is replenished or not. A control unit 200 controls a replenishment pump 51 on the basis of the determination.
(FR)L'invention concerne une unité de calcul (300) qui trouve la résistivité d'un liquide porteur dans un réservoir de liquide porteur par calcul. Une unité de calcul de résistivité (302) trouve la résistivité du liquide porteur en fonction de « la quantité de liquide pour chaque nombre de passages du liquide porteur qui a traversé un dispositif de séparation et d'extraction » et « la résistivité pour chaque nombre de passages du liquide porteur qui a traversé le dispositif de séparation et d'extraction ». « La quantité de liquide pour chaque nombre de passages » est calculée par une unité de calcul de la distribution du degré de détérioration (301) et enregistrée dans une mémoire (201). Concernant « la résistivité pour chaque nombre de passages », la résistivité du liquide porteur après que le liquide porteur a traversé le dispositif de séparation et d'extraction est préenregistré dans la mémoire (201) pour chaque nombre de passages. Une unité (202) de détermination de remplissage par le liquide porteur détermine, en fonction de la résistivité trouvée du liquide porteur, si le remplissage par le liquide porteur est accompli ou non. Une unité de commande (200) commande une pompe (51) de remplissage en fonction de la détermination.
(JA)演算部300は、キャリアタンク内のキャリア液の抵抗率を演算により求める。抵抗率演算部302は、「分離抽出装置を通過したキャリア液の通過回数毎の液量」と、「分離抽出装置を通過したキャリア液の通過回数毎の抵抗率」とに基づいて、キャリア液の抵抗率を求める。「通過回数毎の液量」は、劣化度分布演算部301によって演算されメモリ201に記憶されている。「通過回数毎の抵抗率」は、分離抽出装置を通過した後のキャリア液の抵抗率が通過回数毎にメモリ201に予め記憶されている。キャリア補給判定部202は、求めたキャリア液の抵抗率に基づいて補給用キャリア液を補給するか否かを判定する。制御部200は、この判定に基づいて補給用ポンプ51を制御する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)