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1. (WO2018042505) DÉFLECTEUR ÉLECTROMAGNÉTIQUE ET DISPOSITIF À RAYONS DE PARTICULES CHARGÉES
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N° de publication :    WO/2018/042505    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/075256
Date de publication : 08.03.2018 Date de dépôt international : 30.08.2016
CIB :
H01J 37/147 (2006.01), H01J 37/28 (2006.01)
Déposants : HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP)
Inventeurs : UMEHARA Katsunori; (JP).
MIYAMOTO Takuji; (JP).
YAMANAKA Keisuke; (JP).
MUNRO Eric; (GB).
IKEGAMI Akira; (JP).
HAYASHIDA Takao; (JP)
Mandataire : TODA Yuji; (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) ELECTROMAGNETIC DEFLECTOR, AND CHARGED PARTICLE RAY DEVICE
(FR) DÉFLECTEUR ÉLECTROMAGNÉTIQUE ET DISPOSITIF À RAYONS DE PARTICULES CHARGÉES
(JA) 電磁偏向器、及び荷電粒子線装置
Abrégé : front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide an electromagnetic deflector that reduces third order and fifth order aberration at a high level, and a charged particle ray device. In order to achieve the aforesaid purpose, there are proposed an electromagnetic deflector and a charged particle ray device, said electromagnetic deflector being an electromagnetic deflector that deflects charged particle beams, and has 4n coils for generating a magnetic field that deflects beams of charged particles. The 4n coils are formed so that, within a plane that is perpendicular to the ideal optical axis of the charged particle beam, when a first virtual straight line contacting one end of the coil and a second virtual straight line contacting the other end of the coil intersect so as to have the ideal optical axis of the charged particle beam as the intersection point, an opening angle representing the half angle of the relative angle of the coil side of the two virtual straight lines satisfies at least one of the conditions among θA = 36° + a, θB = 84° – a, θC = a, θD = 120° – a (angle condition 1), and θA = 72° – b, θB = 12° – b, θC = b, θD = 60° + b (angle condition 2).
(FR)Le but de la présente invention est de fournir un déflecteur électromagnétique qui réduit une aberration de troisième ordre et de cinquième ordre à un niveau élevé, et un dispositif à rayons de particules chargées. Afin d'atteindre l'objectif mentionné ci-dessus, l'invention concerne un déflecteur électromagnétique et un dispositif à rayons de particules chargées, ledit déflecteur électromagnétique étant un déflecteur électromagnétique qui dévie les faisceaux de particules chargées, et a 4n bobines pour générer un champ magnétique qui dévie les faisceaux de particules chargées. Les 4n bobines sont formées de telle sorte que, dans un plan qui est perpendiculaire à l'axe optique idéal du faisceau de particules chargées, lorsqu'une première ligne droite virtuelle en contact avec une extrémité de la bobine et une seconde ligne droite virtuelle en contact avec l'autre extrémité de la bobine se croisent de manière à avoir l'axe optique idéal du faisceau de particules chargées comme point d'intersection, un angle d'ouverture représentant l'angle de demi-angle de l'angle relatif du côté bobine des deux lignes droites virtuelles satisfait au moins l'une des conditions parmi θA = 36° + a, θB = 84° – a, θC = a, θD = 120° – a (angle condition 1), et θA = 72° – b, θB = 12° – b, θC = b, θD = 60° + b (angle condition 2).
(JA)本発明は、三次および五次の収差を、高いレベルで低減する電磁偏向器、及び荷電粒子線装置の提供を目的とする。そのために、荷電粒子ビームを偏向する電磁偏向器であって、荷電粒子のビームを偏向する磁場を発生する4n個のコイルを有し、当該4n個のコイルは、前記荷電粒子ビームの理想光軸に垂直な平面内で、コイルの一端に接する第1の仮想直線と、前記コイルの他端に接する第2の仮想直線とが、前記荷電粒子ビームの理想光軸を交点とするように交差するときの2つの仮想直線の前記コイル側の相対角の半角を示す開き角が、θ=36°+a、θ=84°-a、θ=a、θ=120°-a(角度条件1)、及びθ=72°-b、θ=12°-b、θ=b、θ=60°+b(角度条件2)の少なくとも1つの条件を満たすように形成される電磁偏向器、及び荷電粒子線装置を提案する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)