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1. (WO2018041834) CAPTEUR ÉLECTROCHIMIQUE, ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN CAPTEUR ÉLECTROCHIMIQUE
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N° de publication : WO/2018/041834 N° de la demande internationale : PCT/EP2017/071669
Date de publication : 08.03.2018 Date de dépôt international : 29.08.2017
CIB :
G01N 27/404 (2006.01)
Déposants : ANALOG DEVICES GLOBAL[IE/IE]; 3rd Floor, Par La Ville Place 14 Par La Ville Road Hamilton, BM
Inventeurs : BERDUQUE, Alfonso; IE
MCGUINNESS, Patrick; IE
SPEER, Raymond J.; IE
CAWLEY, Brendan; IE
MCAULIFFE, Donal; IE
LANE, William; IE
BERNEY, Helen; IE
Mandataire : THOMPSON, Andrew; Withers & Rogers LLP 4 More London More London Riverside London Greater London SE1 2AU, GB
Données relatives à la priorité :
15/251,83330.08.2016US
Titre (EN) AN ELECTROCHEMICAL SENSOR, AND A METHOD OF FORMING AN ELECTROCHEMICAL SENSOR
(FR) CAPTEUR ÉLECTROCHIMIQUE, ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN CAPTEUR ÉLECTROCHIMIQUE
Abrégé : front page image
(EN) An electrochemical sensor is provided which may be formed using micromachining techniques commonly used in the manufacture of integrated circuits. This is achieved by forming microcapillaries in a silicon substrate and forming an opening in an insulating layer to allow environmental gases to reach through to the top side of the substrate. A porous electrode is printed on the top side of the insulating layer such that the electrode is formed in the opening in the insulating layer. The sensor also comprises at least one additional electrode. The electrolyte is then formed on top of the electrodes. A cap is formed over the electrodes and electrolyte. This arrangement may easily be produced using micromachining techniques.
(FR) La présente invention concerne un capteur électrochimique qui peut être formé en utilisant des techniques de micro-usinage couramment utilisées dans la fabrication de circuits intégrés. Ceci est accompli en formant des microcapillaires dans un substrat de silicium et en formant une ouverture dans une couche isolante pour permettre à des gaz environnementaux d'atteindre le côté supérieur du substrat. Une électrode poreuse est imprimée sur le côté supérieur de la couche isolante de telle sorte que l'électrode soit formée dans l'ouverture dans la couche isolante. Le capteur comprend également au moins une électrode supplémentaire. L'électrolyte est ensuite formé par-dessus les électrodes. Un capuchon est formé sur les électrodes et l'électrolyte. Cet agencement peut être fabriqué facilement à l'aide de techniques de micro-usinage.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)