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1. (WO2018039323) DISPOSITIFS PHOTONIQUES MONOLITHIQUES À INDICE DE RÉFRACTION ÉLEVÉ
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N° de publication : WO/2018/039323 N° de la demande internationale : PCT/US2017/048182
Date de publication : 01.03.2018 Date de dépôt international : 23.08.2017
CIB :
G02B 1/04 (2006.01) ,B29C 59/02 (2006.01) ,B29D 11/00 (2006.01) ,G02C 7/00 (2006.01)
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
1
Eléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques
04
faits de substances organiques, p.ex. plastiques
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
29
TRAVAIL DES MATIÈRES PLASTIQUES; TRAVAIL DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL
C
FAÇONNAGE OU ASSEMBLAGE DES MATIÈRES PLASTIQUES; FAÇONNAGE DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL; POST-TRAITEMENT DES PRODUITS FAÇONNÉS, p.ex. RÉPARATION
59
Façonnage de surface, p.ex. gaufrage; Appareils à cet effet
02
par des moyens mécaniques, p.ex. par pressage
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
29
TRAVAIL DES MATIÈRES PLASTIQUES; TRAVAIL DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL
D
FABRICATION D'OBJETS PARTICULIERS, À PARTIR DE MATIÈRES PLASTIQUES OU DE SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE
11
Fabrication d'éléments optiques, p.ex. lentilles ou prismes
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
C
LUNETTES; LUNETTES DE SOLEIL OU LUNETTES PROTECTRICES DANS LA MESURE OÙ LEURS CARACTÉRISTIQUES SONT LES MÊMES QUE CELLES DES LUNETTES; LENTILLES DE CONTACT
7
Pièces optiques
Déposants :
MOLECULAR IMPRINTS, INC. [US/US]; 9801 Metric Blvd. Suite 100 Austin, Texas 78758, US
Inventeurs :
BHAGAT, Sharad D.; US
PEROZ, Christophe; US
SINGH, Vikramjit; US
XU, Frank Y.; US
Mandataire :
FLANAGAN, PH.D., Heather L.; US
Données relatives à la priorité :
62/380,09326.08.2016US
62/502,97308.05.2017US
Titre (EN) MONOLITHIC HIGH REFRACTIVE INDEX PHOTONIC DEVICES
(FR) DISPOSITIFS PHOTONIQUES MONOLITHIQUES À INDICE DE RÉFRACTION ÉLEVÉ
Abrégé :
(EN) Fabricating a high refractive index photonic device includes disposing a polymerizable composition on a first surface of a first substrate and contacting the polymerizable composition with a first surface of a second substrate, thereby spreading the polymerizable composition on the first surface of the first substrate. The polymerizable composition is cured to yield a polymeric structure having a first surface in contact with the first surface of the first substrate, a second surface opposite the first surface of the polymeric structure and in contact with the first surface of the second substrate, and a selected residual layer thickness between the first surface of the polymeric structure and the second surface of the polymeric structure in the range of 10 µm to 1 cm. The polymeric structure is separated from the first substrate and the second substrate to yield a monolithic photonic device having a refractive index of at least 1.6.
(FR) La fabrication d'un dispositif photonique à indice de réfraction élevé comprend la disposition d'une composition polymérisable sur une première surface d'un premier substrat et la mise en contact de la composition polymérisable avec une première surface d'un second substrat, ce qui permet d'étaler la composition polymérisable sur la première surface du premier substrat. La composition polymérisable est durcie pour donner une structure polymère ayant une première surface en contact avec la première surface du premier substrat, une seconde surface opposée à la première surface de la structure polymère et en contact avec la première surface du second substrat, et une épaisseur de couche résiduelle sélectionnée entre la première surface de la structure polymère et la seconde surface de la structure polymère dans la plage de 10 µm à 1 cm. La structure polymère est séparée du premier substrat et du second substrat pour produire un dispositif photonique monolithique ayant un indice de réfraction d'au moins 1,6.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)