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1. (WO2018033199) PROCÉDÉ DE PRÉPARATION DE COMPOSÉS AMINOORGANOSILICIUM SECONDAIRES
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N° de publication :    WO/2018/033199    N° de la demande internationale :    PCT/EP2016/069436
Date de publication : 22.02.2018 Date de dépôt international : 16.08.2016
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    25.01.2017    
CIB :
C07F 7/18 (2006.01)
Déposants : WACKER CHEMIE AG [DE/DE]; Hanns-Seidel-Platz 4 81737 München (DE)
Inventeurs : POPP, Alfred; (DE).
HÜTTL, Katja; (DE)
Mandataire : FRITZ, Helmut; (DE).
BITTERLICH, Bianca; (DE).
BUDCZINSKI, Angelika; (DE).
DEFFNER-LEHNER, Maria; (DE).
EGE, Markus; (DE).
FRÄNKEL, Robert; (DE).
MIESKES, Klaus; (DE).
POTTEN, Holger; (DE).
RIMBÖCK, Karl-Heinz; (DE).
SCHUDERER, Michael; (DE)
Données relatives à la priorité :
Titre (DE) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON SEKUNDÄREN AMINOORGANOSILICIUMVERBINDUNGEN
(EN) METHOD FOR THE PRODUCTION OF SECONDARY AMINOORGANOSILICON COMPOUNDS
(FR) PROCÉDÉ DE PRÉPARATION DE COMPOSÉS AMINOORGANOSILICIUM SECONDAIRES
Abrégé : front page image
(DE)Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung der in den Ansprüchen beschriebenen Aminoorganosiliciumverbindungen, durch Umsetzung von cyclischen oder acyclischen Aminen mit (Halogenorganyl) silan, wobei die Umsetzung die folgenden Schritte umfasst: a) Umsetzung der (Halogenorganyl) siliciumverbindung der allgemeinen Formel (3) und des Amins der allgemeinen Formel (2) bei einer Temperatur von 0 bis 250°C, wobei neben der Siliciumverbindung der allgemeinen Formel (1) als Nebenprodukt das Ammoniumhalogenid des Amins der allgemeinen Formel (2) gebildet wird, b) Zugabe einer Base (B), wobei es zu einer vollständigen oder partiellen Umsalzung kommt, bei der das Amin der allgemeinen Formel (2) wieder freigesetzt wird und sich das Halogenid der Base (B) bildet, bei einer Temperatur bei der das Halogenid der Base (B) als separate Flüssigkeitsphase vorliegt und c) Abtrennung des gebildeten flüssigen Halogenids der Base (B).
(EN)The invention relates to a method for producing the aminoorganosilicon compounds described in the claims by reacting cyclical or acyclical amines with (halogen-organyl)silane, the reaction comprising the following steps: a) reacting the (halogen-organyl)silicon compound of general formula (3) and the amine of general formula (2) at a temperature from 0 to 250°C, the ammonium halide of the amine of general formula (2) being formed as a byproduct in addition to the silicon compound of general formula (1), b) adding a base (B), with complete or partial salt metathesis taking place and the amine of general formula (2) being released again and the halide of the base (B) being formed, at a temperature at which the halide of the base (B) is present as a separate liquid phase, and c) separating the formed liquid halide of the base (B).
(FR)L'invention concerne un procédé de préparation des composés aminoorganosilicium décrits dans les revendications, par réaction d'amines cycliques ou acycliques avec un (halogénorganyl)silane, la réaction comprenant les étapes consistant à : a) faire réagir le composé (halogénorganyl)silicium représenté par la formule générale (3) et l’amine représentée par la formule générale (2) à une température de 0 à 250 °C, l'halogénure d'ammonium de l'amine représentée par la formule générale (2) se formant en plus du composé silicium représenté par la formule générale (1) en tant que produit secondaire, b) ajouter une base (B), ce qui entraîne un échange d’anion complet ou partiel, lors duquel l'amine représentée par la formule générale (2) est à nouveau libérée et l'halogénure de la base (B) se forme, à une température à laquelle l'halogénure de la base (B) est présente sous forme de phase liquide séparée, et c) séparer l'halogénure de la base (B) liquide formé.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)