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1. (WO2018028298) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT DE RÉSEAU, SUBSTRAT DE RÉSEAU ET APPAREIL D'AFFICHAGE

Pub. No.:    WO/2018/028298    International Application No.:    PCT/CN2017/088200
Publication Date: Fri Feb 16 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Thu Jun 15 01:59:59 CEST 2017
IPC: H01L 21/84
H01L 27/12
Applicants: BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD.
京东方科技集团股份有限公司
Inventors: ZHANG, Bin
张斌
LIU, Chienhung
刘建宏
CHAN, Yucheng
詹裕程
SUN, Xuefei
孙雪菲
CAO, Zhanfeng
曹占锋
Title: PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT DE RÉSEAU, SUBSTRAT DE RÉSEAU ET APPAREIL D'AFFICHAGE
Abstract:
La présente invention concerne un procédé de préparation d'un substrat de réseau, un substrat de réseau et un appareil d’affichage. Le procédé consiste à : former sur un substrat de base (10) une couche de film opaque entière (20) ; traiter la couche de film de telle sorte qu'une région transparente (a) et qu'une région opaque (b) sont formées sur la couche de film, la région opaque correspondant à une région de canal (c) d'une couche active (40) ; et former un transistor à couches minces sur la couche de film traitée. Au moyen de la formation d'une couche de film opaque entière, la région transparente ainsi que de la région opaque sont formées sur la couche de film avant la formation du transistor à couches minces, et, par conséquent, aucune différence de segment ne se produit lors du dépôt de l'autre couche de film sur la couche de film entière, et les divers autres problèmes négatifs découlant de la différence de segment sont également évités.