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1. (WO2018023838) NOUVEAU FILM DE PROTECTION POUR EMPÊCHER LA FORMATION DE VOILE SUR UN PHOTOMASQUE
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N° de publication :
WO/2018/023838
N° de la demande internationale :
PCT/CN2016/095948
Date de publication :
08.02.2018
Date de dépôt international :
19.08.2016
CIB :
G03F 1/62
(2012.01),
G03F 1/64
(2012.01),
G03F 1/82
(2012.01)
G
PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1
Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
62
Pellicules, p.ex. assemblage de pellicules ayant une membrane sur un cadre de support; Leur préparation
G
PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1
Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
62
Pellicules, p.ex. assemblage de pellicules ayant une membrane sur un cadre de support; Leur préparation
64
caractérisés par les cadres, p.ex. du point de vue de leur structure ou de leur matériau
G
PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1
Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
68
Procédés de préparation non couverts par les groupes G03F1/20-G03F1/50105
82
Procédés auxiliaires, p.ex. nettoyage ou inspection
Déposants :
CHANGZHOU RUIZE MICROELECTRONICS CO., LTD.
[CN/CN]; West Wing of 1st Floor, Building 3 No. 25 Changjiang Middle Road, Xinbei District Changzhou, Jiangsu 213022 (CN)
Inventeurs :
XU, Fei
; (CN)
Données relatives à la priorité :
201620849129.4
05.08.2016
CN
Titre
(EN)
NOVEL PROTECTION FILM FOR PREVENTING FROM GROWING HAZE ON PHOTOMASK
(FR)
NOUVEAU FILM DE PROTECTION POUR EMPÊCHER LA FORMATION DE VOILE SUR UN PHOTOMASQUE
(ZH)
一种避免光掩模长雾状颗粒的新型保护膜
Abrégé :
(EN)
A novel protection film for preventing from growing a haze on a photomask, comprising a frame (2) connected to a photomask (1) and a protection film (3) connected to ends of the frame (2). A gas channel is provided on the frame (2). According to the design of the protection film, by providing a gas channel on a metal frame of the protection film, clean gas sweeps a space enclosed by a photomask and the protection film, so that small molecule substances excited by deep ultraviolet photons in the space are swept out of the space by the gas, or the small molecule substances are sucked out of the gas channel by an auxiliary device (such as a vacuum pump), thus the small molecule substances are prevented from gathering to form a haze on the surface of the photomask, the service life of the photomask can be effectively improved, and the protection film features a reasonable design in structure, and is convenient and practical.
(FR)
La présente invention concerne un nouveau film de protection pour empêcher la formation d’un voile sur un photomasque, comprenant un cadre (2) raccordé à un photomasque (1) et un film de protection (3) raccordé aux extrémités du cadre (2). Un canal de gaz est disposé sur le cadre (2). Selon la conception du film de protection, en disposant un canal de gaz sur un cadre métallique du film de protection, un gaz propre balaie un espace entouré par un photomasque et le film de protection, de sorte que des substances à petite molécule excitées par des photons d’ultraviolet profond dans l’espace soient balayées hors de l’espace par le gaz, ou bien les substances à petite molécule sont aspirées hors du canal de gaz par un dispositif auxiliaire (tel qu’une pompe à vide), de sorte que les substances à petite molécule ne puissent pas s’agréger pour former un voile sur la surface du photomasque, la durée de vie du photomasque peut être efficacement améliorée, et le film de protection présente une conception raisonnable en termes de structure, et est commode et pratique.
(ZH)
一种避免光掩模长雾状颗粒的新型保护膜,包括:连接在光掩模(1)上的框架(2)、与框架(2)端部连接的保护薄膜(3),框架(2)上设置有气体通道。保护膜的设计是在保护膜的金属框架上制作气体通道,让洁净的气体对光掩模和保护膜所围成的空间进行吹扫,使得该空间中的被深紫外光子激发的小分子物质被这些气体吹扫出该空间,或通过辅助设备(真空泵等)将小分子物质从气体通道中抽吸出去,从而避免这些小分子物质在光掩模表面集聚形成Haze,可有效提高光掩模使用寿命,结构设计合理,方便实用。
États désignés :
AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication :
chinois (
ZH
)
Langue de dépôt :
chinois (
ZH
)