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1. (WO2018018353) SUBSTRAT DE RÉSEAU ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SUBSTRAT DE RÉSEAU

Pub. No.:    WO/2018/018353    International Application No.:    PCT/CN2016/091528
Publication Date: Fri Feb 02 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Tue Jul 26 01:59:59 CEST 2016
IPC: H01L 27/12
Applicants: SHENZHEN ROYOLE TECHNOLOGIES CO., LTD.
深圳市柔宇科技有限公司
Inventors: YUAN, Ze
袁泽
YU, Xiaojun
余晓军
GUPTA, Amit
古普塔阿米特
ZHAO, Jigang
赵继刚
WEI, Peng
魏鹏
Title: SUBSTRAT DE RÉSEAU ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SUBSTRAT DE RÉSEAU
Abstract:
La présente invention concerne un substrat de réseau et un procédé de fabrication d'un substrat de réseau. Le substrat de réseau comprend un substrat (110), une ligne de transmission de signal (120), une électrode de grille (130), une première couche isolante (140), une couche active (150), une première électrode (1601), une deuxième électrode (1602) et une troisième électrode (200). La première couche isolante (140) comprend une première partie isolante et une seconde partie isolante Une rainure d'isolation (1401) est disposée entre la première partie isolante recouvrant la ligne de transmission de signal (120) et la seconde partie isolante recouvrant l'électrode de grille (130). La rainure d'isolation (1401) peut libérer la contrainte interne dans la première couche isolante (140), empêchant ainsi la première couche isolante fragile (140) de se rompre facilement sous l'effet de la contrainte interne, et la réduction de la déformation de structures de couche telles qu'un substrat flexible (110) dans un transistor à couche mince et la première couche isolante (140), de façon à améliorer la flexibilité du substrat de réseau. La rainure d'isolation (1401) et un premier trou traversant (1402) pour connecter la première électrode (1601) et la ligne de transmission de signal (120) peuvent être formés ensemble au moyen d'un photo-masque et d'un processus de gravure une fois, ce qui simplifie les étapes de traitement du substrat de réseau et réduit les coûts de fabrication.