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1. (WO2017207452) COMPOSITION DE REMPLISSAGE D'ESPACE ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS AU MOYEN D'UNE COMPOSITION CONTENANT UN POLYMÈRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2017/207452    N° de la demande internationale :    PCT/EP2017/062821
Date de publication : 07.12.2017 Date de dépôt international : 29.05.2017
CIB :
G03F 7/09 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/38 (2006.01)
Déposants : AZ ELECTRONIC MATERIALS (LUXEMBOURG) S.A.R.L. [LU/LU]; 46 Place Guillaume II 1648 Luxembourg (LU)
Inventeurs : WANG, Xiaowei; (JP).
NAGAHARA, Tatsuro; (JP)
Mandataire : B2B PATENTS; c/o Merck Patent GmbH 64271 Darmstadt (DE)
Données relatives à la priorité :
2016-107820 30.05.2016 JP
2016-204550 18.10.2016 JP
Titre (EN) GAP FILLING COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING COMPOSITION CONTAINING POLYMER
(FR) COMPOSITION DE REMPLISSAGE D'ESPACE ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS AU MOYEN D'UNE COMPOSITION CONTENANT UN POLYMÈRE
Abrégé : front page image
(EN)[Subject] There is provided a gap filling composition which can reduce pattern collapse and a pattern forming method using the composition. [Solution means] There is provided a gap filling composition including a polymer having a certain structure and an organic solvent. There is provided a pattern forming method using a certain polymer.
(FR)L'invention concerne une composition de remplissage d'espace, qui peut réduire l'affaissement des motifs, et un procédé de formation de motifs au moyen de la composition. [Solution] L'invention concerne une composition de remplissage d'espace comprenant un polymère ayant une certaine structure et un solvant organique. L'invention concerne un procédé de formation de motifs dans lequel on utilise un certain polymère.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)