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1. (WO2017185092) POLY(THIOÉTHERS) POUR LA SÉQUESTRATION D'IONS MÉTALLIQUES
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N° de publication :    WO/2017/185092    N° de la demande internationale :    PCT/US2017/029161
Date de publication : 26.10.2017 Date de dépôt international : 24.04.2017
CIB :
C08G 75/02 (2016.01), C08G 75/06 (2006.01), C08G 75/10 (2006.01)
Déposants : RUTGERS, THE STATE UNIVERSITY OF NEW JERSEY [US/US]; Old Queens Building, Somerset and George Streets New Brunswick, New Jersey 08901 (US)
Inventeurs : PIETRANGELO, Agostino; (US).
MANGALUM, Anshuman; (US)
Mandataire : HARRIS, Robert J.; (US).
VIKSNINS, Ann S.; (US).
MALEN, Peter L.; (US).
MICKELSON, John W.; (US).
KRUEGER, Katherine A.D.; (US).
KLIMA SILBERG, Catherine I.; (US).
PADYS, Danny J.; (US).
LI, Yang; (US)
Données relatives à la priorité :
62/326,414 22.04.2016 US
Titre (EN) POLY(THIOETHERS) FOR METAL ION SEQUESTRATION
(FR) POLY(THIOÉTHERS) POUR LA SÉQUESTRATION D'IONS MÉTALLIQUES
Abrégé : front page image
(EN)The invention provides a polymer comprising two or more residues of formula III or IV or salts thereof: wherein dash line, X, Y, Q, L, M, n, R1, R2, Ra, Rb, Rc and Rd have any of the values defined in the specification, as well as synthetic intermediates and synthetic methods useful for preparing the compounds. The polymer is useful to treat contaminated water by chelating metal.
(FR)L'invention concerne un polymère comprenant au moins deux résidus de formule III ou IV ou des sels de ceux-ci; dans les formules, la ligne à pointillés, X, Y, Q, L, M, n, R1, R2, Ra, Rb, Rc et Rd ont l'une quelconque des valeurs définies dans la spécification. L'invention concerne également des intermédiaires de synthèse et des procédés de synthèse utiles pour la préparation des composés. Le polymère est utile pour traiter de l'eau contaminée en chélatant les métaux.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)