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1. (WO2017169626) COMPOSITION DE RÉSINE ACTIVE PHOTOSENSIBLE OU SENSIBLE AUX RAYONNEMENTS, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE

Pub. No.:    WO/2017/169626    International Application No.:    PCT/JP2017/009461
Publication Date: Fri Oct 06 01:59:59 CEST 2017 International Filing Date: Fri Mar 10 00:59:59 CET 2017
IPC: G03F 7/039
G03F 7/038
Applicants: FUJIFILM CORPORATION
富士フイルム株式会社
Inventors: GOTO Akiyoshi
後藤 研由
NISHIO Ryo
西尾 亮
ASAKAWA Daisuke
浅川 大輔
TSUCHIMURA Tomotaka
土村 智孝
SHIRAKAWA Michihiro
白川 三千紘
Title: COMPOSITION DE RÉSINE ACTIVE PHOTOSENSIBLE OU SENSIBLE AUX RAYONNEMENTS, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
Abstract:
L’objectif de la présente invention est de mettre en œuvre : une composition de résine active photosensible ou sensible aux rayonnements qui peut former un motif dont la résistance à la gravure sèche est excellente et la résistance à l’effondrement est excellente ; un procédé de formation de motif qui utilise cette composition de résine active photosensible ou sensible aux rayonnements ; et un procédé de fabrication d’un dispositif électronique. Une composition de résine active photosensible ou sensible aux rayonnements selon la présente invention contient une résine (A) contenant une unité de répétition (a1) qui comporte un groupe représenté par la formule générale (1) et un composé (B) qui génère un acide lors de l’irradiation de lumière ou de rayonnement actif. *-L1-W-(L2-R2)n (1) Dans la formule générale (1), L1 représente une liaison simple ou un groupe de liaison divalent ; W représente un groupe hydrocarbure alicyclique de valence (n+1) ou un groupe aromatique de valence (n+1) ; L2 représente un groupe de liaison divalent ; R2 représente un substituant spécifique ; et n représente un entier supérieur ou égal à 1. Dans des cas où n est supérieur ou égal à 2, la pluralité de groupes fonctionnels L2 peuvent être identiques ou différents les uns des autres, et la pluralité de groupes fonctionnels R2 peuvent être identiques ou différents les uns des autres.