Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales

1. (WO2017169564) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D’ACIDE TÉRÉPHTALIQUE

Pub. No.:    WO/2017/169564    International Application No.:    PCT/JP2017/008964
Publication Date: Fri Oct 06 01:59:59 CEST 2017 International Filing Date: Wed Mar 08 00:59:59 CET 2017
IPC: C07C 63/26
C07C 51/43
Applicants: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
三菱瓦斯化学株式会社
Inventors: NAKAMURA, Goh
中村 剛
FUJITA, Hideaki
藤田 英明
MURAKAMI, Kotaro
村上 嵩太郎
SHIGEMATSU, Ryusuke
重松 隆助
Title: PROCÉDÉ DE PRODUCTION D’ACIDE TÉRÉPHTALIQUE
Abstract:
La présente invention concerne la production d’acide téréphtalique en : introduisant, dans une partie supérieure d’une colonne de remplacement de milieu de dispersion, une suspension brute d’acide téréphtalique obtenue par oxydation en phase liquide d’un composé p-phénylène ou d’une suspension d’acide téréphtalique après qu’un traitement d’hydrogénation par contact exécuté sur l’acide téréphtalique brut soit introduit ; et l’introduction d’un second milieu de dispersion en remplacement d’une partie inférieure de la colonne de remplacement de milieu de dispersion afin de provoquer le remplacement d’un milieu de dispersion, la présente invention décrit un procédé de production d’acide téréphtalique capable de maintenir l’efficacité de remplacement d’un milieu de dispersion à un niveau extrêmement élevé, et capable de maintenir le fonctionnement de manière stable. Le procédé de production d’acide téréphtalique comprend : une étape d’introduction, dans une partie supérieure d’une colonne de remplacement de milieu de dispersion, d'une suspension brute d’acide téréphtalique contenant un milieu de dispersion et d'un acide téréphtalique brut obtenu par oxydation en phase liquide d’un composé p-phénylène ; une étape consistant à faire entrer en contact un écoulement croissant d’un second milieu de dispersion introduit depuis une partie inférieure de la colonne de remplacement de milieu de dispersion avec la suspension brute d’acide téréphtalique de sorte qu’une couche de suspension de cristaux d’acide téréphtalique purifié dispersé dans le second milieu de dispersion soit formée dans une chambre inférieure de la colonne de remplacement de milieu de dispersion ; une étape d’extraction de la suspension de cristaux d’acide téréphtalique purifié à partir de la chambre inférieure de la colonne de remplacement de milieu de dispersion, et l’envoi de la suspension vers une cuve de cristallisation munie d’un moyen de mesure de la concentration de la suspension ; et une étape d’envoi de la suspension dans la cuve de cristallisation vers un moyen de séparation solide-liquide pour séparer les cristaux d’acide téréphtalique, où, en régulant le débit d’écoulement du second milieu de dispersion fourni à la chambre inférieure de la colonne de remplacement de milieu de dispersion, le débit d’écoulement de la suspension de cristaux d’acide téréphtalique purifié extraite de la chambre inférieure de la colonne de remplacement de milieu de dispersion, et le débit d’écoulement de la suspension envoyée depuis la cuve de cristallisation vers le moyen de séparation solide-liquide, les conditions (1) à (3) sont maintenues : (1) le volume V1 de la suspension dans la cuve de cristallisation se situe dans la plage de 0,050 fois à 0,80 fois par rapport au volume V0 de l’ensemble de la suspension d’acide téréphtalique dans la colonne de remplacement de milieu de dispersion ; (2) la position d’une zone d’interface entre la couche de suspension de cristaux d’acide téréphtalique dans la chambre inférieure de la colonne de remplacement de milieu de dispersion et une suspension d’acide téréphtalique dilué dans une partie médiane de la colonne de remplacement de milieu de dispersion se situe à l’intérieur de la plage de variation de ±800 mm par rapport à une valeur cible témoin ; et (3) la concentration de la suspension dans la cuve de cristallisation se situe à l’intérieur de la plage de 25 à 40 % en pds.