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1. (WO2017168482) DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES ET PROCÉDÉ DE RÉGLAGE DU DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2017/168482 N° de la demande internationale : PCT/JP2016/059793
Date de publication : 05.10.2017 Date de dépôt international : 28.03.2016
CIB :
H01J 37/04 (2006.01) ,H01J 37/05 (2006.01) ,H01J 37/29 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02
Détails
04
Dispositions des électrodes et organes associés en vue de produire ou de commander la décharge, p.ex. dispositif électronoptique, dispositif ionoptique
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02
Détails
04
Dispositions des électrodes et organes associés en vue de produire ou de commander la décharge, p.ex. dispositif électronoptique, dispositif ionoptique
05
Dispositifs électronoptiques ou ionoptiques pour la séparation des électrons ou des ions en fonction de leur énergie
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
26
Microscopes électroniques ou ioniques; Tubes à diffraction d'électrons ou d'ions
29
Microscopes à réflexion
Déposants :
株式会社 日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西新橋一丁目24番14号 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717, JP
Inventeurs :
尾方 智彦 OGATA Tomohiko; JP
長谷川 正樹 HASEGAWA Masaki; JP
村越 久弥 MURAKOSHI Hisaya; JP
小貫 勝則 ONUKI Katsunori; JP
兼岡 則幸 KANEOKA Noriyuki; JP
Mandataire :
戸田 裕二 TODA Yuji; JP
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE AND METHOD FOR ADJUSTING CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE
(FR) DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES ET PROCÉDÉ DE RÉGLAGE DU DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
(JA) 荷電粒子線装置、及び荷電粒子線装置の調整方法
Abrégé :
(EN) The objective of the present invention is to propose a charged particle beam device with which an imaging optical system and an irradiation optical system can be adjusted with high precision. In order to achieve this objective, provided is a charged particle beam device comprising: a first charged particle column which serves as an irradiation optical system; a deflector that deflects charged particles which have passed through the inside of the first charged particle column toward an object; and a second charged particle column which serves as an imaging optical system. The charged particle beam device is provided with: a light source that emits light toward the object; and a control device that obtains, on the basis of detection of charged particles generated according to irradiation of light emitted from the light source, a plurality of deflection signals which maintain a certain deflection state, and that selects or calculates, from the plurality of deflection signals or from relationship information produced from the plurality of deflection signals, a deflection signal that satisfies a predetermined condition.
(FR) La présente invention a pour but de fournir un dispositif à faisceau de particules chargées à l'aide duquel un système optique d'imagerie et un système optique de rayonnement peuvent être réglés avec une grande précision. Pour atteindre ce but, l'invention porte sur un dispositif à faisceau de particules chargées qui comprend : une première colonne de particules chargées qui sert de système optique de rayonnement ; un déflecteur qui dévie les particules chargées qui ont traversé l'intérieur de la première colonne de particules chargées vers un objet ; une seconde colonne de particules chargées qui sert de système optique d'imagerie. Le dispositif à faisceau de particules chargées est pourvu : d'une source lumineuse qui émet de la lumière vers l'objet ; d'un dispositif de commande qui obtient, sur la base de la détection de particules chargées générées selon le rayonnement de la lumière émise par la source lumineuse, une pluralité de signaux de déviation qui maintiennent un certain état de déviation, et qui sélectionne ou calcule, parmi la pluralité de signaux de déviation ou à partir d'informations de relation produites par la pluralité de signaux de déviation, un signal de déviation qui satisfait une condition prédéterminée.
(JA) 本発明は、高精度な結像光学系と照射光学系の調整を可能とする荷電粒子線装置の提案を目的とする。この目的を達成するために、照射光学系となる第1の荷電粒子カラムと、当該第1の荷電粒子カラム内を通過した荷電粒子を対象物に向かって偏向する偏向器と、結像光学系となる第2の荷電粒子カラムを備えた荷電粒子線装置であって、対象物に向かって、光を照射する光源と、当該光源から放出された光の照射に応じて発生する荷電粒子の検出に基づいて、或る偏向状態を維持する複数の偏向信号を求め、当該複数の偏向信号から、或いは当該複数の偏向信号から作成される関係情報から、所定の条件を満たす偏向信号を選択、或いは演算する制御装置を備えた荷電粒子線装置を提案する。
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Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)