WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2017052744) PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR LA DÉTECTION DE PARTICULES À SENSIBILITÉ ÉLEVÉE DANS DES ENSEMBLES DÉTECTEURS INFRAROUGES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/052744    N° de la demande internationale :    PCT/US2016/043758
Date de publication : 30.03.2017 Date de dépôt international : 22.07.2016
CIB :
G01J 5/04 (2006.01), G01J 5/06 (2006.01), G01N 21/94 (2006.01)
Déposants : RAYTHEON COMPANY [US/US]; 870 Winter Street Waltham, Massachusetts 02451-1449 (US)
Inventeurs : MARTIN, Chadwick B.; (US).
KREMER, Rex M.; (US).
TEMKIN, Jesse C.; (US)
Mandataire : DOYLE, David M.; (US).
MUNCK, William A.; (US)
Données relatives à la priorité :
14/863,016 23.09.2015 US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR HIGH SENSITIVITY PARTICULATE DETECTION IN INFRARED DETECTOR ASSEMBLIES
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR LA DÉTECTION DE PARTICULES À SENSIBILITÉ ÉLEVÉE DANS DES ENSEMBLES DÉTECTEURS INFRAROUGES
Abrégé : front page image
(EN)A detector assembly (300, 500) includes a dewar chamber (102, 502) having an aperture (108, 510) and an infrared radiation detector (106, 514). The detector assembly also includes a mirror (304, 400, 410, 504) disposed adjacent the aperture of the dewar chamber, where the mirror has a reflective surface (306, 604) and an emitting region (305, 402, 412, 606) facing the aperture. The infrared radiation detector is configured to detect first radiation and second radiation from the mirror. The first radiation originates from at least one relatively cold surface in the dewar chamber and reflects off the reflective surface of the mirror. The second warm radiation originates from at least one relatively warm surface at or behind the emitting region. The infrared radiation detector is also configured to detect an artifact (322, 712, 722, 802) caused by a particle (110) in the dewar chamber that blocks a portion of the first or second radiation.
(FR)Ensemble détecteur (300, 500) comprenant une chambre de Dewar (102, 502) comportant une ouverture (108, 510) et un détecteur de rayonnement infrarouge (106, 514). L'ensemble détecteur comprend également un miroir (304, 400, 410, 504) disposé adjacent à l'ouverture de la chambre de Dewar, le miroir ayant une surface réfléchissante (306, 604) et une zone d'émission (305, 402, 412, 606) tournée vers l'ouverture. Le détecteur de rayonnement infrarouge est conçu pour détecter un premier rayonnement et un second rayonnement provenant du miroir. Le premier rayonnement provient d'au moins une surface relativement froide dans la chambre de Dewar et est réfléchi par la surface réfléchissante du miroir. Le second rayonnement chaud provient d'au moins une surface relativement chaude au niveau de la zone d'émission ou derrière celle-ci. Le détecteur de rayonnement infrarouge est également conçu pour détecter un artéfact (122, 712, 722, 802) causé par une particule (110) dans la chambre de Dewar qui bloque une partie du premier ou du second rayonnement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)