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1. (WO2017038200) DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/038200    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/067642
Date de publication : 09.03.2017 Date de dépôt international : 14.06.2016
CIB :
B05B 5/053 (2006.01), B05B 5/08 (2006.01), B05D 1/04 (2006.01), B05D 7/04 (2006.01)
Déposants : KONICA MINOLTA, INC. [JP/JP]; 2-7-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1007015 (JP)
Inventeurs : SAKKA, Kenji; (JP).
KAWAMURA, Tomonori; (JP)
Mandataire : KOYO INTERNATIONAL PATENT FIRM; 17F., Tokyo Takarazuka Bldg., 1-1-3, Yurakucho, Chiyoda-ku, Tokyo 1000006 (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-173379 03.09.2015 JP
Titre (EN) FILM FORMING DEVICE AND FILM FORMING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM
(JA) 成膜装置及び成膜方法
Abrégé : front page image
(EN)The problem addressed by the present invention is to provide a film forming device and film forming method that can suppress reductions in film growth rate even during continuous film forming. The present invention is a film forming device for forming a film on a base film by an electrostatic spray and is characterized in that: the device is provided with a transport mechanism for transporting base film and a plurality of nozzles for forming the film on the base film that is transported by the transport mechanism by spraying raw material liquid that has been charged; and the plurality of nozzles is formed from a nozzle for spraying raw material liquid that has been positively charged and a nozzle for spraying raw material liquid that has been negatively charged, with each of the nozzles being disposed along the direction of transport of the base film.
(FR)Le problème selon la présente invention consiste à fournir un dispositif de formation de film et un procédé de formation de film permettant de supprimer des réductions de vitesse d'une vitesse de croissance de film pendant la formation continue d'un film. La présente invention concerne un dispositif de formation de film pour la formation d'un film sur un film de base par une pulvérisation électrostatique et est caractérisée en ce que: le dispositif est doté d'un mécanisme de transport pour le transport d'un film de base et d'une pluralité de buses pour la formation du film sur le film de base qui est transporté par le mécanisme de transport par la pulvérisation d'une matière première liquide qui a été chargée; et la pluralité de buses est formée d'une buse pour la pulvérisation d'une matière première liquide qui a été chargée positivement et d'une buse pour la pulvérisation d'une matière première liquide qui a été chargée négativement, chacune des buses étant disposée le long de la direction de transport du film de base.
(JA)本発明の課題は、連続成膜時にも成膜レートの低下を抑えることができる成膜装置及び成膜方法を提供することである。 本発明は、ベースフィルム上に静電スプレー法により膜を形成する成膜装置であって、ベースフィルムを搬送する搬送機構と、帯電させた原料液を噴霧して、前記搬送機構により搬送される前記ベースフィルム上に前記膜を形成する複数のノズルと、を備え、前記複数のノズルが、正の極性に帯電させた原料液を噴霧するノズルと、負の極性に帯電させた原料液を噴霧するノズルとからなり、各ノズルが前記ベースフィルムの搬送方向に並べて配置されていることを特徴とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)