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1. (WO2017035893) MATÉRIAU COMPOSITE DE POLYÉTHERÉTHERCÉTONE/NANO-HYDROXYAPATITE POUR TECHNOLOGIE SLS ET SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/035893    N° de la demande internationale :    PCT/CN2015/091159
Date de publication : 09.03.2017 Date de dépôt international : 30.09.2015
CIB :
C08L 61/16 (2006.01), C08K 3/32 (2006.01)
Déposants : GUANGDONG SILVER AGE SCI & TECH CO., LTD. [CN/CN]; JuQi Industrial park, Humen town Dongguan, Guangdong 523927 (CN)
Inventeurs : YAN, Chunze; (CN).
SHI, Yusheng; (CN).
FU, Yi; (CN).
SHI, Yunsong; (CN).
PAN, Teng; (CN).
WANG, Yan; (CN).
WEI, Qingsong; (CN).
LIU, Jie; (CN)
Mandataire : WUHAN DONGYU PATENT AGENCY; Suite 7038 High-tech building, No.2 Jiayuan Road, East lake high-tech zone Wuhan, Hubei 430074 (CN)
Données relatives à la priorité :
201510558005.0 02.09.2015 CN
Titre (EN) POLYETHERETHERKETONE/NANO-HYDROXYAPATITE COMPOSITE MATERIAL FOR SLS TECHNOLOGY AND PREPARATION METHOD THEREOF
(FR) MATÉRIAU COMPOSITE DE POLYÉTHERÉTHERCÉTONE/NANO-HYDROXYAPATITE POUR TECHNOLOGIE SLS ET SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION
(ZH) 一种用于SLS技术的聚醚醚酮/纳米羟基磷灰石复合材料及其制备方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed are a polyetheretherketone (PEEK)/nano-hydroxyapatite (HA) composite material for the SLS technology and a preparation method thereof. The preparation method of the composite material comprises: selecting PEEK having a particle size of 10μm-100μm and aqueous solutions of precursors 1 and 2; dispersing the PEEK evenly in the aqueous solution of the precursor 1; stirring a mixture of the aqueous solution of the precursor 1 and the PEEK while dripping the aqueous solution of the precursor 2 into the mixture; and adjusting a pH value of the mixture to 10-12, and then continuing the reaction for 24-48h. The composite material obtained by using the preparation method of the invention exhibits favorable biocompatibility, has an even configuration and good fluidity, and is favorable for powder-laying and shaping processes of the SLS technology.
(FR)L'invention porte sur un matériau composite de polyétheréthercétone (PEEK)/nano-hydroxyapatite (HA) pour la technologie de frittage sélectif au laser (SLS) et un procédé de préparation de ce dernier. Le procédé de préparation du matériau composite consiste : à sélectionner un polyétheréthercétone (PEEK) ayant une taille de particule de 10 μm à 100 μm et des solutions aqueuses de précurseurs 1 et 2 ; à disperser uniformément le PEEK dans la solution aqueuse du précurseur 1 ; à agiter un mélange de la solution aqueuse du précurseur 1 et du PEEK tout en faisant goutter la solution aqueuse du précurseur 2 dans le mélange ; et à régler la valeur de pH du mélange à une valeur de 10 à 12, puis à poursuivre la réaction pendant 24 à 48 h. Le matériau composite obtenu en mettant en œuvre le procédé de préparation de l'invention présente une biocompatibilité favorable, une configuration uniforme et une bonne fluidité, et est favorable pour des procédés de pose de poudre et de formage de la technologie SLS.
(ZH)本发明公开了一种用于SLS技术的聚醚醚酮/纳米羟基磷灰石复合材料及其制备方法。所述复合材料的制备方法,包括选取10μm-100μm的PEEK和两种反应前驱体1和2水溶液,将PEEK均匀分散到反应前驱体1水溶液中,在搅拌的同时将反应前驱体2水溶液滴入反应前驱体1水溶液和PEEK的混合溶液中,将混合液的pH值调节至10-12后继续反应24-48h。本发明提供的制备方法所得到的复合材料生物相容性好,形态均匀,流动性良好,利于SLS技术的铺粉和成形过程。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)