(EN) Provided is an exposure apparatus, comprising an exposure unit (100) for exposing a wafer (200). The exposure unit (100) comprises an illumination system (110) and a mask (120). The illumination system (110) comprises a light-homogenizing unit (113), comprising a light-homogenizing quartz rod (1131) having a cross section in the form of a regular hexagon. The shape of the mask (120) is a regular hexagon matched with the cross section of the light-homogenizing quartz rod (1131). The present invention can effectively reduce an influence of field curvature of an objective on depth of focus (DOF) in the same exposure field, thereby enhancing useful DOF (UDOF). In addition, an exposure area of the exposure field is enlarged when a projection objective remains the same DOF.
(FR) L'invention concerne un appareil d'exposition, comprenant une unité d'exposition (100) permettant d'exposer une tranche (200). L'unité d'exposition (100) comprend un système d'éclairage (110) et un masque (120). Le système d'éclairage (110) comprend une unité d'homogénéisation de lumière (113), comprenant une tige à quartz (1131) d'homogénéisation de lumière présentant une section transversale adoptant la forme d'un hexagone régulier. La forme du masque (120) consiste en un hexagone régulier mis en correspondance avec la section transversale de la tige à quartz (1131) d'homogénéisation de lumière. La présente invention permet de réduire efficacement une influence de courbure de champ d'un objet sur une profondeur de champ (DOF) dans le même champ d'exposition, ce qui permet d'améliorer la profondeur de champ utile (UDOF). En outre, une zone d'exposition du champ d'exposition est agrandie lorsqu'un objectif de projection demeure dans la même DOF.
(ZH) 一种曝光装置,包括曝光单元(100),用于对晶圆(200)进行曝光;所述曝光单元(100)包括照明系统(110)和掩模(120),所述照明系统(110)包括匀光单元(113),所述匀光单元(113)包括横截面为正六边形的匀光石英棒(1131),所述掩模(120)的形状为与所述匀光石英棒(1131)的横截面相匹配的正六边形。在相同曝光视场的情况下能够有效降低物镜场曲对焦深的影响,提高实际可使用的焦深;在投影物镜相同的焦深得情况下,扩大了曝光视场的曝光面积。