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1. (WO2016194577) ÉLÉMENT D’IMAGERIE, PROCÉDÉ D’IMAGERIE, PROGRAMME, ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/194577    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/064213
Date de publication : 08.12.2016 Date de dépôt international : 13.05.2016
CIB :
H01L 27/146 (2006.01), G02B 7/34 (2006.01), G03B 13/36 (2006.01), H01L 27/14 (2006.01), H04N 5/369 (2011.01), H04N 9/07 (2006.01)
Déposants : SONY CORPORATION [JP/JP]; 1-7-1, Konan, Minato-ku, Tokyo 1080075 (JP)
Inventeurs : SUGIZAKI Taro; (JP)
Mandataire : NISHIKAWA Takashi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-109338 29.05.2015 JP
Titre (EN) IMAGING ELEMENT, IMAGING METHOD, PROGRAM, AND ELECTRONIC DEVICE
(FR) ÉLÉMENT D’IMAGERIE, PROCÉDÉ D’IMAGERIE, PROGRAMME, ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
(JA) 撮像素子、撮像方法、プログラム、並びに電子機器
Abrégé : front page image
(EN)The present technology relates to an imaging element, an imaging method, a program and an electronic device which allow accurate focusing control to be carried out. The imaging element has two or more laminated photoelectric-conversion layers that include a photoelectric converting part divided to correspond to each pixel. The imaging element is configured to include a state in which the light incident on one pixel in a first photoelectric-conversion layer near an optical lens is received at the photoelectric converting part in a second photoelectric-conversion layer away from the optical lens. The imaging element detects a phase difference using a signal acquired from the photoelectric converting part in the second photoelectric-conversion layer. The second photoelectric-conversion layer includes a photoelectric converting part corresponding to three or more pixels. The second photoelectric-conversion layer includes a plurality of pixels for phase difference detection for one of the on-chip lenses provided in the first photoelectric conversion layer. The present can be applied to, for example, an imaging element for photography.
(FR)La présente technologie se rapporte à un élément d'imagerie, un procédé d'imagerie, un programme et un dispositif électronique qui permettent de mettre en œuvre une précision de commande de focalisation. L'élément d'imagerie a deux couches de conversion photoélectrique stratifiées ou plus qui comprennent une partie de conversion photoélectrique divisée de façon à correspondre à chaque pixel. L'élément d'imagerie est conçu pour comprendre un état dans lequel la lumière incidente sur un pixel dans une première couche de conversion photoélectrique à proximité d'une lentille optique est reçue au niveau de la partie de conversion photoélectrique dans une seconde couche de conversion photoélectrique à l'opposé de la lentille optique. L'élément d'imagerie détecte un déphasage à l'aide d'un signal acquis à partir de la partie de conversion photoélectrique dans la seconde couche de conversion photoélectrique. La seconde couche de conversion photoélectrique comprend une partie de conversion photoélectrique correspondant à trois pixels ou plus. La seconde couche de conversion photoélectrique comprend une pluralité de pixels pour une détection de déphasage pour l'une des lentilles sur puce disposées dans la première couche de conversion photoélectrique. L'invention peut être appliquée, par exemple, à un élément d'imagerie destiné à la photographie.
(JA)本技術は、精度良くフォーカス制御を行えるようにすることができるようにする撮像素子、撮像方法、プログラム、並びに電子機器に関する。 画素単位に分割された光電変換部を有する光電変換層が2層以上に積層されており、光学レンズに近い側の第1の光電変換層の1画素に入射された光が、光学レンズから遠い側の第2の光電変換層の光電変換部で受光される状態を含むように構成され、第2の光電変換層の光電変換部により得られる信号を用いて位相差を検出する。第2の光電変換層の3画素以上の光電変換部を備える。また第2の光電変換層は、第1の光電変換層に設けられているオンチップレンズの1つに対して、複数の位相差検出用の画素を備える。本技術は、例えば、撮像を行う撮像素子などに適用できる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)