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1. (WO2016190429) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILM MINCE OPTIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILM OPTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/190429    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/065790
Date de publication : 01.12.2016 Date de dépôt international : 27.05.2016
CIB :
C23C 14/24 (2006.01), C23C 14/08 (2006.01), G02B 5/20 (2006.01)
Déposants : ULVAC, INC. [JP/JP]; 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543 (JP)
Inventeurs : HIGASHIDE Kousuke; (JP).
HIRONO Takayoshi; (JP).
KURAUCHI Toshiharu; (JP).
SATO Masatoshi; (JP).
ISOYA Gen; (JP)
Mandataire : ISHIJIMA, Shigeo; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-107323 27.05.2015 JP
Titre (EN) OPTICAL THIN FILM MANUFACTURING METHOD AND OPTICAL FILM MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILM MINCE OPTIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILM OPTIQUE
(JA) 光学薄膜製造方法、光学フィルム製造方法
Abrégé : front page image
(EN)The present invention forms an optical thin film having a desired optical characteristic. When forming an optical thin film 11 on a substrate 10 that is to be treated by including oxygen gas in a vacuum atmosphere and heating a metal material to discharge a vapor, a flow rate or partial pressure and a film thickness for obtaining a desired optical characteristic are determined from a previously determined relationship between the optical characteristic of the optical thin film 11 and oxygen gas flow rate or oxygen partial pressure, and an optical thin film 11 of the determined film thickness is formed with the determined flow rate or partial pressure. If the optical thin film 11 is formed after plasma treatment of the surface of the substrate 10 that is to receive the vapor deposition, it is possible to form an optical thin film 11 with high optical density without reducing resistance.
(FR)La présente invention forme un film mince optique possédant une caractéristique optique souhaitée. Lors de la formation d'un film mince optique (11) sur un substrat (10) qui doit être traité en incluant de l'oxygène gazeux dans une atmosphère sous vide et en chauffant un matériau métallique pour décharger une vapeur, un débit ou pression partielle et une épaisseur de film pour obtenir une caractéristique optique souhaitée sont déterminés à partir d'une relation précédemment déterminée entre la caractéristique optique du film mince optique (11) et le débit d'oxygène gazeux ou la pression partielle en oxygène, et un film mince optique (11) de l'épaisseur de film déterminée est formé avec le débit ou la pression partielle déterminé(e). Si le film mince optique (11) est formé après un traitement au plasma de la surface du substrat (10) qui est destiné à recevoir le dépôt en phase vapeur, il est possible de former un film mince optique (11) avec une densité optique élevée sans réduire la résistance.
(JA)所望の光学特性を有する光学薄膜を形成する。真空雰囲気中に酸素ガスを含有させ、金属材料を加熱して蒸気を放出させ、被処理対象基材10上に光学薄膜11を形成する際に、予め求めておいた光学薄膜11の光学特性と酸素ガスの流量や酸素の分圧値との関係から、所望の光学特性を得るための流量値又は分圧値と膜厚値とを求め、求めた流量値又は分圧値で、求めた膜厚値の光学薄膜11を形成する。被蒸着基材10の表面をプラズマで処理した後、光学薄膜11を形成すると、抵抗値を低下させずに、光学濃度の値が大きい光学薄膜11を形成することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)