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1. (WO2016188739) SYSTÈME D'ILLUMINATION POUR UNE INSTALLATION D'EXPOSITION PAR PROJECTION POUR MICROLITHOGRAPHIE ET INSTALLATION D'EXPOSITION PAR PROJECTION POUR MICROLITHOGRAPHIE COMPRENANT UN SYSTÈME D'ILLUMINATION DE CE TYPE
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N° de publication : WO/2016/188739 N° de la demande internationale : PCT/EP2016/060487
Date de publication : 01.12.2016 Date de dépôt international : 11.05.2016
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 17/08 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
17
Systèmes avec surfaces réfléchissantes, avec ou sans éléments de réfraction
08
Systèmes catadioptriques
Déposants :
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Str. 2 73447 Oberkochen, DE
Inventeurs :
SHAFER, David; US
SCHWAB, Markus; DE
GRUNER, Toralf; DE
HERKOMMER, Alois; DE
Mandataire :
PATENTANWÄLTE RUFF, WILHELM, BEIER, DAUSTER & PARTNER MBB; Kronenstraße 30 70174 Stuttgart, DE
Données relatives à la priorité :
10 2015 209 645.927.05.2015DE
62/166,75027.05.2015US
Titre (EN) ILLUMINATION SYSTEM FOR A MICROLITHOGRAPHY PROJECTION EXPOSURE SYSTEM AND MICROLITHOGRAPHY PROJECTION EXPOSURE SYSTEM COMPRISING AN ILLUMINATION SYSTEM OF THIS TYPE
(FR) SYSTÈME D'ILLUMINATION POUR UNE INSTALLATION D'EXPOSITION PAR PROJECTION POUR MICROLITHOGRAPHIE ET INSTALLATION D'EXPOSITION PAR PROJECTION POUR MICROLITHOGRAPHIE COMPRENANT UN SYSTÈME D'ILLUMINATION DE CE TYPE
(DE) BELEUCHTUNGSSYSTEM FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHIE-PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE SOWIE MIKROLITHOGRAPHIE-PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT EINEM SOLCHEN BELEUCHTUNGSSYSTEM
Abrégé :
(EN) An illumination system (ILL) for a microlithography projection exposure system for illuminating an illumination field with the light from a primary light source comprises a pupil forming unit (PFU) for receiving light from the primary light source (LS) and for generating a two-dimensional intensity distribution in a pupil-forming surface (PUP) of the illumination system, a transmission system (TRANS) for transmitting the intensity distribution into an intermediate illumination field (IF) which lies in an intermediate field plane (IFP), and an optical imaging system (IMS) for displaying the intermediate illumination field arranged in the intermediate field plane into the illumination field which lies in an exit plane (EX) of the illumination system which is optically conjugated in relation to the intermediate field plane. The illumination system is characterized in that the optical mapping system (IMS) is a catadioptric mapping system with a plurality of lenses and at least one concave mirror (CM).
(FR) L'invention concerne un système d'illumination (ILL) pour une installation d'exposition par projection pour microlithographie pour l'illumination d'un champ d'illumination avec la lumière d'une source de lumière primaire comprenant une unité de formation de pupilles (PFU) pour la réception de la lumière de la source de lumière primaire (LS) et pour la génération d'une répartition bidimensionnelle de l'intensité dans une surface de formation de pupilles (PUP) du système d'illumination, un système de transfert (TRANS) pour le transfert de la répartition de l'intensité dans un champ d'illumination intermédiaire (IF) qui se situe dans un plan de champ intermédiaire (IFP) ; et un système d'imagerie optique (IMS) pour la représentation du champ d'illumination intermédiaire, disposé dans le plan de champ intermédiaire, dans le champ d'illumination qui se situe dans un plan de sortie (EX) du système d'illumination, conjugué optiquement au plan de champ intermédiaire. Le système d'illumination est caractérisé en ce que le système d'imagerie optique (IMS) est un système d'imagerie catadioptrique comprenant une pluralité de lentilles et au moins un miroir concave (CM).
(DE) Ein Beleuchtungssystem (ILL) für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage zur Beleuchtung eines Beleuchtungsfeldes mit dem Licht einer primären Lichtquelle umfasst eine Pupillenformungseinheit (PFU) zum Empfang von Licht der primären Lichtquelle (LS) und zur Erzeugung einer zweidimensionalen Intensitätsverteilung in einer Pupillenformungsfläche (PUP) des Beleuchtungssystems, ein Übertragungssystem (TRANS) zur Übertragung der Intensitätsverteilung in ein Zwischen-Beleuchtungsfeld (IF), das in einer Zwischenfeldebene (IFP) liegt; und ein optisches Abbildungssystem (IMS) zur Abbildung des in der Zwischenfeldebene angeordneten Zwischen-Beleuchtungsfeldes in das Beleuchtungsfeld, das in einer zur Zwischenfeldebene optisch konjugierten Austrittsebene (EX) des Beleuchtungssystems liegt. Das Beleuchtungssystem ist dadurch gekennzeichnet, dass das optische Abbildungssystem (IMS) ein katadioptrisches Abbildungssystem mit einer Vielzahl von Linsen und mindestens einem Konkavspiegel (CM) ist.
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Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)