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1. (WO2016187922) PROCÉDÉ DE DÉTECTION DE DÉFAUTS DE SUBSTRAT MATRICIEL TFT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/187922    N° de la demande internationale :    PCT/CN2015/082529
Date de publication : 01.12.2016 Date de dépôt international : 26.06.2015
CIB :
G02F 1/13 (2006.01), G02F 1/1362 (2006.01)
Déposants : SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; No.9-2, Tangming Road, Guangming New District Shenzhen, Guangdong 518132 (CN)
Inventeurs : HONG, Ri; (CN).
XIE, Kecheng; (CN)
Mandataire : YUHONG INTELLECTUAL PROPERTY LAW FIRM; WU, Dajian/LIU, Hualian West Wing, Suite 713, One Junefield Plaza, 6 Xuanwumenwai Street, Xicheng District Beijing 100052 (CN)
Données relatives à la priorité :
201510273831.0 26.05.2015 CN
Titre (EN) METHOD FOR DETECTING DEFECT OF TFT ARRAY SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ DE DÉTECTION DE DÉFAUTS DE SUBSTRAT MATRICIEL TFT
(ZH) 一种检测TFT阵列基板的缺陷的方法
Abrégé : front page image
(EN)A method for detecting a defect of a TFT array substrate comprises: locating an abnormal region on the TFT array substrate; isolating the abnormal region from other regions on the substrate; and processing the abnormal region to gradually expose multiple film layers at the abnormal region, and checking the exposed film layers to determine a film layer having a defect at the abnormal region. The method improves capability for detecting the defect of the substrate.
(FR)L'invention concerne un procédé de détection d'un défaut d'un substrat matriciel TFT qui comprend les étapes consistant : à localiser une région anormale sur le substrat matriciel TFT ; à isoler la région anormale des autres régions sur le substrat ; et à traiter la région anormale pour exposer graduellement de multiples couches de film au niveau de la zone anormale, et à vérifier les couches de film exposées pour déterminer une couche de film ayant un défaut au niveau de la région anormale. Le procédé améliore la capacité à détecter le défaut du substrat.
(ZH)一种检测TFT阵列基板的缺陷的方法,包括,定位TFT阵列基板上的异常区域;将异常区域与基板上的其他区域进行隔离;对异常区域进行处理,使异常区域处的多膜层逐层显露,并对显露出来的膜层进行检测从而确定异常区域处存在缺陷的膜层。该方法提高了对基板的缺陷进行检测的能力。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)