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1. (WO2016144249) PROCÉDÉ D'ÉCHANTILLONNAGE PASSIF OU ACTIF DES PARTICULES ET COMPOSANTS EN PHASE GAZEUSE CONTENUS DANS UN ÉCOULEMENT DE FLUIDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/144249    N° de la demande internationale :    PCT/SE2016/050199
Date de publication : 15.09.2016 Date de dépôt international : 11.03.2016
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    10.01.2017    
CIB :
G01N 1/44 (2006.01), G01N 1/02 (2006.01), G01N 1/28 (2006.01), G01N 27/64 (2006.01)
Déposants : PROVTAGAREN AB [SE/SE]; Box 461 281 24 Hässleholm (SE)
Inventeurs : SKARPING, Gunnar; (SE).
DALENE, Marianne; (SE)
Mandataire : AWAPATENT AB; Dan Henriksson Box 5117 200 71 Malmö (SE)
Données relatives à la priorité :
1550303-0 12.03.2015 SE
Titre (EN) METHOD FOR PASSIVE OR ACTIVE SAMPLING OF PARTICLES AND GAS PHASE COMPONENTS IN A FLUID FLOW
(FR) PROCÉDÉ D'ÉCHANTILLONNAGE PASSIF OU ACTIF DES PARTICULES ET COMPOSANTS EN PHASE GAZEUSE CONTENUS DANS UN ÉCOULEMENT DE FLUIDE
Abrégé : front page image
(EN)A method for passive or active sampling of particles and gas phase components in a fluid flow. A sampling device is provided in the fluid flow, wherein the sampling device comprises an ionization chamber and a detection chamber. A fraction of the particles and the gas phase components in the fluid become ionized and charged when introduced in the ionization chamber. The charged particles and gas phase components are then introduced in the detection chamber, which comprises a positively charged wall surface and a negatively charged wall surface. The positively charged particles and gas phase components are bound to the negatively charged wall surface, and the negatively charged particles and gas phase components are bound to the positively charged wall surface. The amount of particles present in the fluid flow is determined by measuring the current change between the positively charged wall surface and the negatively charged wall surface.
(FR)L'invention concerne un procédé d'échantillonnage passif ou actif des particules et des composants en phase gazeuse contenus dans un écoulement de fluide. Un dispositif d'échantillonnage est placé dans l'écoulement de fluide, ledit dispositif d'échantillonnage comprenant une chambre d'ionisation et une chambre de détection. Une fraction des particules et des composants en phase gazeuse contenus dans le fluide est ionisée et chargée lors de son introduction dans la chambre d'ionisation. Les particules et les composants en phase gazeuse sont ensuite introduits dans la chambre de détection, qui comporte une surface de paroi à charge positive et une surface de paroi à charge négative. Les particules et les composants en phase gazeuse chargées positivement se lient à la paroi à charge négative, et les particules et les composants en phase gazeuse chargés négativement se lient à la paroi à charge positive. La quantité de particules présentes dans l'écoulement de fluide est déterminée par mesure de la variation du courant entre la surface de paroi à charge positive et la surface de paroi à charge négative.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)