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1. (WO2016117541) STRUCTURE DE RÉSEAU DE VIDE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/117541    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/051405
Date de publication : 28.07.2016 Date de dépôt international : 19.01.2016
CIB :
G01N 21/01 (2006.01), B01D 67/00 (2006.01), B01D 69/00 (2006.01), G01N 21/3581 (2014.01)
Déposants : MURATA MANUFACTURING CO., LTD. [JP/JP]; 10-1, Higashikotari 1-chome, Nagaokakyo-shi, Kyoto 6178555 (JP)
Inventeurs : KAWARA, Naoki; (JP).
BANJU, Masaru; (JP).
KONDO, Takashi; (JP).
KAMBA, Seiji; (JP)
Mandataire : FUKAMI PATENT OFFICE, P.C.; Nakanoshima Central Tower, 2-7, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-009996 22.01.2015 JP
Titre (EN) VOID ARRAY STRUCTURE AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) STRUCTURE DE RÉSEAU DE VIDE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) 空隙配置構造体およびその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A film-like void array structure having a first main surface and second main surface that oppose each other and a plurality of voids penetrating both the first main surface and second main surface, wherein at least one area that is a portion of the second main surface and touches three or more of the plurality of voids in a planar view from a direction normal to the second main surface has a protrusion protruding from the second main surface in the direction normal to the second main surface.
(FR)L'invention concerne une structure de réseau de vide de type film ayant une première surface principale et une seconde surface principale qui s'opposent l'une à l'autre, et une pluralité de vides pénétrant à la fois dans la première surface principale et la seconde surface principale, au moins une zone qui est une partie de la seconde surface principale et touche au moins trois de la pluralité de vides dans une vue en plan depuis une direction normale à la seconde surface principale ayant une protubérance faisant saillie de la seconde surface principale dans la direction normale à la seconde surface principale.
(JA) 互いに対向する第1主面および第2主面を有し、前記第1主面および前記第2主面を貫通する複数の空隙部を有する膜状の空隙配置構造体であって、前記第2主面上の一部の領域であり、前記第2主面の法線方向から見た平面視において前記複数の空隙部のうち3つ以上と接する少なくとも1つの領域において、前記第2主面から前記第2主面の法線方向に突出した突起を有する、空隙配置構造体。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)