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1. (WO2016116876) COMPOSITIONS COMPRENANT UN ACIDE DE MASSE MOLÉCULAIRE ÉLEVÉE ADAPTÉ À LA FORMATION DE POLYMÈRES CONDUCTEURS SUR DES SUBSTRATS DIÉLECTRIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/116876    N° de la demande internationale :    PCT/IB2016/050277
Date de publication : 28.07.2016 Date de dépôt international : 20.01.2016
CIB :
C09D 5/44 (2006.01), C25D 5/56 (2006.01)
Déposants : ENTHONE INC. [US/US]; 350 Frontage Road West Haven, Connecticut 06516 (US)
Inventeurs : RIETMANN, Christian; (DE).
GLÖCKNER, Andreas; (DE)
Mandataire : FLEISCHUT, Paul I. J.; (US).
AGOVINO, Frank R.; (US).
BAIN, Robert M.; (US).
CONWAY, Jason H.; (US).
CRAWFORD, David E.; (US).
EVANS, Robert M.; (US).
EVERDING, William R.; (US).
GODAR, Michael E.; (US).
HARTLEY, Michael J.; (US).
HENDRICKSON, Janet S.; (US).
JAMES, Kurt F.; (US).
JORDAN, Jamaal R.; (US).
KEIL, Vincent M.; (US).
MILLARD, Elizabeth E.; (US).
PETRILLO, Kathleen M.; (US).
POLLMANN, Jonathan G.; (US).
RAKESTRAW, Eric J.; (US).
ROEDEL, JR., John K.; (US).
SCHROEDER, John R.; (US).
TIETZ, Paul D.; (US).
VANDER TUIG, Marc W.; (US).
WALTERS, N. Chris; (US).
WEGMAN, Andrew C.; (US).
SURI, Aleksandra; (US).
BARRINGER, Kyle L.; (US).
JOHNSON, Morgan L.; (US)
Données relatives à la priorité :
62/105,631 20.01.2015 US
Titre (EN) COMPOSITIONS INCLUDING A HIGH MOLECULAR WEIGHT ACID SUITABLE FOR CONDUCTIVE POLYMER FORMATION ON DIELECTRIC SUBSTRATES
(FR) COMPOSITIONS COMPRENANT UN ACIDE DE MASSE MOLÉCULAIRE ÉLEVÉE ADAPTÉ À LA FORMATION DE POLYMÈRES CONDUCTEURS SUR DES SUBSTRATS DIÉLECTRIQUES
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to a composition and a process for the deposition of conductive polymers on dielectric substrates. In particular, the invention relates to a composition for the formation of electrically conductive polymers on the surface of a dielectric substrate, the composition comprising at least one polymerizable monomer which is capable to form a conductive polymer, an emulsifier and an acid, characterized in that the composition comprises at least one metal-ion selected from the group consisting of lithium-ions, sodium-ions, aluminum-ions, beryllium-ions, bismuth-ions, boron-ions, indium-ions and alkyl imidazolium-ions. The acid is typically a high molecular weight polymeric acid having molecular weight of at least 500,000 Da including, for example, polystyrene sulfonic acid having a molecular weight of approximately 1,000,000 Da.
(FR)La présente invention concerne une composition et un procédé pour le dépôt de polymères conducteurs sur des substrats diélectriques. En particulier, la présente invention concerne une composition pour la formation de polymères électroconducteurs à la surface d'un substrat diélectrique, la composition comprenant au moins un monomère polymérisable qui est capable de former un polymère conducteur, un émulsifiant et un acide, caractérisé en ce que la composition comprend au moins un ion métallique choisi dans le groupe constitué par les ions lithium, les ions sodium, les ions aluminium, les ions béryllium, les ions bismuth, les ions bore, les ions indium et les ions imidazolium. L'acide est généralement un acide polymère de masse moléculaire élevée ayant une masse moléculaire d'au moins 500 000 Da, y compris, par exemple, un acide polystyrènesulfonique ayant une masse moléculaire d'environ 1 000 000 Da.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)