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1. WO2016116707 - PROCÉDÉ DE RÉDUCTION DES DÉFAUTS DANS UN FILM ORDONNÉ DE COPOLYMÈRE A BLOCS

Numéro de publication WO/2016/116707
Date de publication 28.07.2016
N° de la demande internationale PCT/FR2016/050115
Date du dépôt international 21.01.2016
CIB
G03F 7/00 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
CPC
C08G 81/021
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
81Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers in the absence of monomers, e.g. block polymers
02at least one of the polymers being obtained by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds
021Block or graft polymers containing only sequences of polymers of C08C or C08F
G03F 1/72
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
1Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
68Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
72Repair or correction of mask defects
G03F 7/0002
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
0002Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
Déposants
  • ARKEMA FRANCE [FR]/[FR]
Inventeurs
  • CHEVALIER, Xavier
  • INOUBLI, Raber
  • NAVARRO, Christophe
  • NICOLET, Celia
Mandataires
  • LE CROM, Christophe
Données relatives à la priorité
15 5047021.01.2015FR
Langue de publication français (FR)
Langue de dépôt français (FR)
États désignés
Titre
(EN) METHOD FOR REDUCING DEFECTS IN AN ORDERED FILM MADE OF BLOCK COPOLYMER
(FR) PROCÉDÉ DE RÉDUCTION DES DÉFAUTS DANS UN FILM ORDONNÉ DE COPOLYMÈRE A BLOCS
Abrégé
(EN)
The invention relates to a method for reducing the number of defects in an ordered film comprising a block copolymer (BCP). The invention also relates to the compositions used to produce said ordered films, and to the ordered films thus produced which can be used in particular as masks in the field of lithography.
(FR)
La présente invention concerne un procédé de réduction du nombre de défauts d'un film ordonné comprenant un copolymère à blocs (BCP). L' invention concerne également les compositions utilisées obtenir ces films ordonnés et les films ordonnés ainsi obtenus pouvant être utilisés en particulier comme masques dans le domaine de la lithographie.
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