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1. (WO2016106947) PLAQUE DE MASQUE DE TYPE COMBINÉ ET PROCÉDÉ POUR SA FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/106947    N° de la demande internationale :    PCT/CN2015/072597
Date de publication : 07.07.2016 Date de dépôt international : 09.02.2015
CIB :
H01L 51/56 (2006.01)
Déposants : SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; No.9-2, Tangming Road, Guangming District of Shenzhen, Guangdong 518132 (CN)
Inventeurs : WU, Tsungyuan; (CN).
LIU, Yawei; (CN)
Mandataire : COMIPS INTELLECTUAL PROPERTY OFFICE; Room 15E, Shenkan Building Shangbu Zhong Road, Futian District Shenzhen, Guangdong 518028 (CN)
Données relatives à la priorité :
201410851833.9 31.12.2014 CN
Titre (EN) COMBINATION TYPE MASK PLATE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
(FR) PLAQUE DE MASQUE DE TYPE COMBINÉ ET PROCÉDÉ POUR SA FABRICATION
(ZH) 组合式掩模板及其制作方法
Abrégé : front page image
(EN)A combination type mask plate and a manufacturing method therefor. The combination type mask plate comprises a mask frame (1), a plurality of first shading plates (2) and a plurality of second shading plates (3). The first shading plates (2) and the second shading plates (3) overlap and form a mesh-shaped structure having a plurality of film-forming holes (4). The thickness of the first shading plates (2) is equal to that of the second shading plates (3). First grooves (21) penetrating through the first shading plates (2) in the width direction are formed in the portions of the first shading plates (2) overlapping with the second shading plates (3). Second grooves (31) penetrating through the second shading plates (3) in the width direction are formed in the portions of the second shading plates (3) overlapping with the first shading plates (2). The first shading plates (2) and the second shading plates (3) are embedded and overlap by means of the first grooves (21) and the second grooves (31), and the upper surfaces and the lower surfaces of the first shading plates (2) and the second shading plates (3) are separately located in the same plane.
(FR)Plaque de masque de type combiné et procédé pour sa fabrication. La plaque de masque de type combiné comporte un cadre (1) de masque, une pluralité de premières plaques (2) d'occultation et une pluralité de deuxièmes plaques (3) d'occultation. Les premières plaques (2) d'occultation et les deuxièmes plaques (3) d'occultation se recouvrent et forment une structure en forme de maillage présentant une pluralité de trous (4) de formation de film. L'épaisseur des premières plaques (2) d'occultation est égale à celle des deuxièmes plaques (3) d'occultation. Des premières rainures (21) pénétrant à travers les premières plaques (2) d'occultation dans le sens de la largeur sont formées dans les parties des premières plaques (2) d'occultation en recouvrement avec les deuxièmes plaques (3) d'occultation. Des deuxièmes rainures (31) pénétrant à travers les deuxièmes plaques (3) d'occultation dans le sens de la largeur sont formées dans les parties des deuxièmes plaques (3) d'occultation en recouvrement avec les premières plaques (2) d'occultation. Les premières plaques (2) d'occultation et les deuxièmes plaques (3) d'occultation sont encastrées et se recouvrent au moyen des premières rainures (21) et des deuxièmes rainures (31), et les surfaces supérieures et les surfaces inférieures des premières plaques (2) d'occultation et des deuxièmes plaques (3) d'occultation sont situées séparément dans le même plan.
(ZH)一种组合式掩膜板及其制作方法。该组合式掩膜板包括掩膜边框(1)、数条第一摭板(2)、及数条第二摭板(3);所述数条第一摭板(2)与数条第二摭板(3)相互交叠,形成具有多个成膜孔(4)的网格状结构;所述数条第一摭板(2)与数条第二摭板(3)的厚度相等;所述第一摭板(2)与第二摭板(3)交叠的部位设有贯穿该第一摭板(2)宽度的第一凹槽(21),所述第二摭板(3)与第一摭板(2)交叠的部位设有贯穿该第二摭板(3)宽度的第二凹槽(31);所述第一、第二摭板(2、3)通过第一、第二凹槽(21、31)相互嵌合、交叠,并使得所述第一、第二摭板(2、3)的上、下表面分别位于同一平面。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)