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1. WO2016094404 - PLATEAU DE MAINTIEN ÉLECTROSTATIQUE POUR APPLICATIONS RF À HAUTE TEMPÉRATURE

Numéro de publication WO/2016/094404
Date de publication 16.06.2016
N° de la demande internationale PCT/US2015/064494
Date du dépôt international 08.12.2015
CIB
H01L 21/683 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
683pour le maintien ou la préhension
CPC
B23Q 3/15
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
QDETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING
3Devices holding, supporting, or positioning work or tools, of a kind normally removable from the machine
15Devices for holding work using magnetic or electric force acting directly on the work
H01L 21/6833
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
683for supporting or gripping
6831using electrostatic chucks
6833Details of electrostatic chucks
H02N 13/00
HELECTRICITY
02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
NELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
13Clutches or holding devices using electrostatic attraction, e.g. using Johnson-Rahbek effect
Déposants
  • APPLIED MATERIALS, INC. [US]/[US]
Inventeurs
  • HANSON, Ryan
  • KOPPA, Manjunatha
  • PARKHE, Vijay D.
  • FORSTER, John C.
  • MILLER, Keith A.
Mandataires
  • LINARDAKIS, Leonard P.
Données relatives à la priorité
14/962,44608.12.2015US
62/090,85811.12.2014US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) ELECTROSTATIC CHUCK FOR HIGH TEMPERATURE RF APPLICATIONS
(FR) PLATEAU DE MAINTIEN ÉLECTROSTATIQUE POUR APPLICATIONS RF À HAUTE TEMPÉRATURE
Abrégé
(EN)
An electrostatic chuck includes a puck having a support surface to support a substrate when disposed thereon and an opposing second surface, wherein one or more chucking electrodes are embedded in the puck, a body having a support surface coupled to the second surface of the puck to support the puck, a DC voltage sensing circuit disposed on support surface of the puck, and an inductor disposed in the body and proximate the support surface of the body, wherein the inductor is electrically coupled to DC voltage sensing circuit, and wherein the inductor is configured to filter high frequency current flow in order to accurately measure DC potential on the substrate.
(FR)
L'invention concerne un plateau de maintien électrostatique, qui comprend un palet présentant une surface d'appui servant à soutenir un substrat lorsqu'il est disposé sur celle-ci et une deuxième surface opposée, une ou plusieurs électrodes de maintien étant encastrées dans le palet, un corps présentant une surface d'appui couplée à la deuxième surface du palet pour soutenir le palet, un circuit de détection de tension continue disposé sur la surface d'appui du palet, et un inducteur disposé dans le corps et à proximité de la surface d'appui du corps, l'inducteur étant électriquement couplé au circuit de détection de tension continue, et l'inducteur étant configuré pour filtrer un flux de courant à haute fréquence afin de mesurer précisément un potentiel continu sur le substrat.
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