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1. WO2016088444 - VENTOUSE, DISPOSITIF DE BISEAUTAGE/POLISSAGE, ET PROCÉDÉ DE BISEAUTAGE/POLISSAGE DE PLAQUETTE DE SILICIUM

Numéro de publication WO/2016/088444
Date de publication 09.06.2016
N° de la demande internationale PCT/JP2015/078219
Date du dépôt international 05.10.2015
CIB
H01L 21/304 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
04les dispositifs présentant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. une jonction PN, une région d'appauvrissement, ou une région de concentration de porteurs de charges
18les dispositifs ayant des corps semi-conducteurs comprenant des éléments du groupe IV de la classification périodique, ou des composés AIIIBV, avec ou sans impuretés, p.ex. des matériaux de dopage
30Traitement des corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes H01L21/20-H01L21/26162
302pour changer leurs caractéristiques physiques de surface ou leur forme, p.ex. gravure, polissage, découpage
304Traitement mécanique, p.ex. meulage, polissage, coupe
B24B 9/00 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
24MEULAGE; POLISSAGE
BMACHINES, DISPOSITIFS OU PROCÉDÉS POUR MEULER OU POUR POLIR; DRESSAGE OU REMISE EN ÉTAT DES SURFACES ABRASIVES; ALIMENTATION DES MACHINES EN MATÉRIAUX DE MEULAGE, DE POLISSAGE OU DE RODAGE
9Machines ou dispositifs pour meuler les bords ou les biseaux des pièces ou pour enlever des bavures; Accessoires à cet effet
B24B 37/30 2012.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
24MEULAGE; POLISSAGE
BMACHINES, DISPOSITIFS OU PROCÉDÉS POUR MEULER OU POUR POLIR; DRESSAGE OU REMISE EN ÉTAT DES SURFACES ABRASIVES; ALIMENTATION DES MACHINES EN MATÉRIAUX DE MEULAGE, DE POLISSAGE OU DE RODAGE
37Machines ou dispositifs de rodage; Accessoires
27Supports de pièce
30pour rodage simple face de surfaces planes
CPC
B24B 37/02
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
24GRINDING; POLISHING
BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING
37Lapping machines or devices; Accessories
02designed for working surfaces of revolution
B24B 37/27
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
24GRINDING; POLISHING
BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING
37Lapping machines or devices; Accessories
27Work carriers
B24B 37/30
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
24GRINDING; POLISHING
BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING
37Lapping machines or devices; Accessories
27Work carriers
30for single side lapping of plane surfaces
B24B 41/068
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
24GRINDING; POLISHING
BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING
41Component parts such as frames, beds, carriages, headstocks
06Work supports, e.g. adjustable steadies
068Table-like supports for panels, sheets or the like
B24B 9/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
24GRINDING; POLISHING
BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING
9Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor
B24B 9/065
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
24GRINDING; POLISHING
BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING
9Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor
02characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground
06of non-metallic inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain
065of thin, brittle parts, e.g. semiconductors, wafers
Déposants
  • 株式会社SUMCO SUMCO CORPORATION [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 鳥居 勘太郎 TORII Kantarou
Mandataires
  • 特許業務法人樹之下知的財産事務所 KINOSHITA & ASSOCIATES
Données relatives à la priorité
2014-24568704.12.2014JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) VACUUM CHUCK, BEVELING/POLISHING DEVICE, AND SILICON WAFER BEVELING/POLISHING METHOD
(FR) VENTOUSE, DISPOSITIF DE BISEAUTAGE/POLISSAGE, ET PROCÉDÉ DE BISEAUTAGE/POLISSAGE DE PLAQUETTE DE SILICIUM
(JA) 吸着チャック、面取り研磨装置、及び、シリコンウェーハの面取り研磨方法
Abrégé
(EN)
A vacuum chuck (11) equipped with a vacuum chuck stage (111) having a round vacuum surface (111A), and also equipped with a vacuum protection pad (112) provided on the vacuum surface (111A), the vacuum chuck (11) being characterized in that: a ring-shaped or arc-shaped concavity (111C) for delimiting a center region (111D) positioned on the center side and an outer-circumferential region (111E) positioned on the outer-circumferential side is formed in the vacuum surface (111A); a concavity (111F) having a radiating shape is formed in the center region (111D); the vacuum protection pad (112) has through-holes (112A) connected to the concavity (111F) having the radiating shape; and the vacuum protection pad (112) is joined to a section of the vacuum surface (111A) in the center region (111D) excluding the concavity (111F) having the radiating shape.
(FR)
L'invention concerne une ventouse (11) équipée d'un plateau de ventouse (111) présentant une surface de ventouse ronde (111A), et également équipée d'un coussinet de protection de ventouse (112) disposé sur la surface de ventouse (111A), la ventouse (11) étant caractérisée en ce que : une concavité annulaire ou arquée (111C), destinée à délimiter une région centrale (111D) positionnée du côté central et une région circonférentielle extérieure (111E) positionnée du côté circonférentiel extérieur, est formée dans la surface de ventouse (111A); une concavité (111F) ayant une forme rayonnante est formée dans la région centrale (111D); le coussinet de protection de ventouse (112) comporte des trous traversants (112A) reliés à la concavité (111F) ayant la forme rayonnante; et le coussinet de protection de ventouse (112) est joint à une section de la surface de ventouse (111A) dans la région centrale (111D) à l'exclusion de la concavité (111F) ayant la forme rayonnante.
(JA)
吸着チャック(11)は、円形の吸着面(111A)を有する吸着チャックステージ(111)と、前記吸着面(111A)に設けられた吸着保護パッド(112)と、を備え、前記吸着面(111A)には、中心側に位置する中央領域(111D)と外周側に位置する外周領域(111E)とに区画する環状又は円弧状の凹部(111C)が形成され、かつ、前記中央領域(111D)には放射状の凹部(111F)が形成され、前記吸着保護パッド(112)は、前記放射状の凹部(111F)と連通する開口孔(112A)を有し、前記吸着保護パッド(112)は、前記放射状の凹部(111F)を除いた前記中央領域(111D)で前記吸着面(111A)と接合されることを特徴とする。
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