(EN) Disclosed herein are several methods of reducing one or more pattern displacement errors, contrast loss, best focus shift, tilt of a Bossung curve of a portion of a design layout used in a patterning process for imaging that portion onto a substrate using a lithographic apparatus. The methods include determining or adjusting one or more characteristics of one or more assist features using the one or more rules based on one or more parameters selected from a group consisting of: one or more characteristics of one or more design features in the portion, one or more characteristics of the patterning process, one or more characteristics of the lithographic apparatus, and/or a combination selected from the foregoing.
(FR) L'invention concerne plusieurs procédés permettant de réduire une ou plusieurs erreurs de déplacement de motif, une perte de contraste, un meilleur décalage de focalisation, l'inclinaison d'une courbe de Bossung d'une partie d'une disposition de conception utilisée dans un processus de formation de motifs pour former l'image de cette partie sur un substrat à l'aide d'un appareil lithographique. Les procédés consistent à déterminer ou à ajuster une ou plusieurs caractéristiques d'une ou de plusieurs caractéristiques d'assistance à l'aide d'une ou de plusieurs règles en se basant sur un ou plusieurs paramètres choisis dans un groupe consistant en : une ou plusieurs caractéristiques d'une ou de plusieurs caractéristiques de conception dans la partie, une ou plusieurs caractéristiques du processus de formation de motifs, une ou plusieurs caractéristiques de l'appareil lithographique, et/ou une combinaison de n'importe lesquelles des caractéristiques ci-dessus.