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1. (WO2016049507) PUCE D'IMAGE MONOLITHIQUE POUR AFFICHAGE PROCHE DE L’ŒIL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/049507    N° de la demande internationale :    PCT/US2015/052318
Date de publication : 31.03.2016 Date de dépôt international : 25.09.2015
CIB :
H01L 33/20 (2010.01)
Déposants : GLO AB [SE/SE]; Scheelevägen 22 S-223 63 Lund (SE).
SCHUBERT, Martin [US/US]; (US)
Inventeurs : SCHUBERT, Martin; (US).
THOMPSON, Daniel Bryce; (US).
GRUNDMANN, Michael; (US).
GARDNER, Nathan; (US)
Mandataire : RADOMSKY, Leon; (US)
Données relatives à la priorité :
62/055,913 26.09.2014 US
Titre (EN) MONOLITHIC IMAGE CHIP FOR NEAR-TO-EYE DISPLAY
(FR) PUCE D'IMAGE MONOLITHIQUE POUR AFFICHAGE PROCHE DE L’ŒIL
Abrégé : front page image
(EN)A set of light emitting devices can be formed on a substrate. A growth mask having a first aperture in a first area and a second aperture in a second area is formed on a substrate. A first nanowire and a second nanowire are formed in the first and second apertures, respectively. The first nanowire includes a first active region having a first band gap and a second active region having a second band gap. The first band gap is greater than the second band gap. The second nanowire includes an active region having the first band gap and does not include, or is adjoined to, any material having the second band gap.
(FR)Un ensemble de dispositifs électroluminescents peut être formé sur un substrat. Un masque de croissance ayant une première ouverture dans une première zone et une seconde ouverture dans une seconde zone est formé sur un substrat. Un premier nanofil et un second nanofil sont formés dans les première et seconde ouvertures, respectivement. Le premier nanofil comprend une première région active ayant une première largeur de bande interdite et une seconde région active ayant une seconde largeur de bande interdite. La première largeur de bande interdite est supérieure à la seconde largeur de bande interdite. Le second nanofil comprend une région active ayant la première largeur de bande interdite et ne comprend pas, ou est contigu à, n'importe quel matériau ayant la seconde largeur de bande interdite.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)