WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2016031802) PELLICULE DE SUBSTRAT D’ÉLECTRODE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/031802    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/073801
Date de publication : 03.03.2016 Date de dépôt international : 25.08.2015
CIB :
G06F 3/041 (2006.01), B32B 7/02 (2006.01), B32B 15/08 (2006.01), C23C 14/06 (2006.01), G06F 3/044 (2006.01), H01B 5/14 (2006.01), H01B 13/00 (2006.01)
Déposants : SUMITOMO METAL MINING CO., LTD [JP/JP]; 11-3, Simbashi 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1058716 (JP)
Inventeurs : OKAMI, Hideharu; (JP)
Mandataire : UEDA, Shozo; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-172605 27.08.2014 JP
Titre (EN) ELECTRODE SUBSTRATE FILM AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
(FR) PELLICULE DE SUBSTRAT D’ÉLECTRODE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 電極基板フィルムとその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)[Problem] To provide an electrode substrate film that does not constitute a hindrance when processing a circuit pattern that comprises a thin line made of metal and in which the circuit pattern is hardly visible under high-luminance illumination, and a method for manufacturing the same. [Solution] The electrode substrate film having a transparent substrate 52 and a laminated thin line made of metal is characterized in that the laminated thin line has a metal absorption layer 51 of 20-30 nm in film thickness that is a first layer reckoning from the transparent substrate side and a metal layer 50 that is a second layer, the optical constants of the metal absorption layer in a visible wavelength region (400-780 nm) being such that the refractive index and extinction coefficient of a wavelength of 400 nm are 1.8-2.2 and 1.8-2.4 respectively, the refractive index and extinction coefficient of a wavelength of 500 nm are 2.2-2.7 and 1.9-2.8 respectively, the refractive index and extinction coefficient of a wavelength of 600 nm are 2.5-3.2 and 1.9-3.1 respectively, the refractive index and extinction coefficient of a wavelength of 700 nm are 2.7-3.6 and 1.7-3.3 respectively, and the refractive index and extinction coefficient of a wavelength of 780 nm are 3.1-3.8 and 1.5-3.4 respectively, the maximum reflectance of the visible wavelength region due to the interface reflection of the transparent substrate and metal absorption layer being 40% or less.
(FR)L’invention aborde le problème de réalisation d’une pellicule de substrat d’électrode qui ne constitue pas un handicap lors du traitement d’un motif de circuit qui comprend une ligne mince formée de métal et dans lequel le motif de circuit est à peine visible sous un éclairage à forte luminance, et son procédé de fabrication. La solution selon l’invention consiste en ce que la pellicule de substrat d’électrode comportant un substrat transparent (52) et une ligne mince stratifiée en métal est caractérisée en ce que la ligne mince stratification comporte une couche d’absorption en métal (51) dont l’épaisseur de pellicule est comprise entre 20 et 30 nm et qui est une première couche en partant du côté du substrat transparent, et une couche de métal (50) qui est une deuxième couche, les constantes optiques de la couche d’absorption en métal dans une plage de longueurs d’onde visibles (400 à 780 nm) étant telles que l’indice de réfraction et le coefficient d’extinction d’une longueur d’onde de 400 nm sont compris entre 1,8 et 2,2 et entre 1,8 et 2,4 respectivement, que l’indice de réfraction et le coefficient d’extinction d’une longueur d’onde de 500 nm sont compris entre 2,2 et 2,7 et entre 1,9 et 2,8 respectivement, que l’indice de réfraction et le coefficient d’extinction d’une longueur d’onde de 600 nm sont compris entre 2,5 et 3,2 et entre 1,9 et 3,1 respectivement, que l’indice de réfraction et le coefficient d’extinction d’une longueur d’onde de 700 nm sont compris entre 2,7 et 3,6 et entre 1,7 et 3,3 respectivement, et que l’indice de réfraction et le coefficient d’extinction d’une longueur d’onde de 780 nm sont compris entre 3,1 et 3,8 et entre 1,5 et 3,4 respectivement, la réflectance de la plage de longueurs d’onde visibles due à la réflexion d’interface du substrat et de la couche d’absorption en métal étant inférieure ou égale à 40 %.
(JA)【課題】金属製細線から成る回路パターンを加工する際に支障を来さずかつ高輝度照明下においても回路パターンが視認され難い電極基板フィルムとその製法を提供する。 【解決手段】透明基板52と金属製の積層細線を有する電極基板フィルムは、積層細線が、透明基板側から数えて第1層目の膜厚が20nm以上30nm以下である金属吸収層51と第2層目の金属層50を有し、可視波長領域(400~780nm)における金属吸収層の光学定数が、波長400nmの屈折率が1.8~2.2、消衰係数が1.8~2.4、波長500nmの屈折率が2.2~2.7、消衰係数が1.9~2.8、波長600nmの屈折率が2.5~3.2、消衰係数が1.9~3.1、波長700nmの屈折率が2.7~3.6、消衰係数が1.7~3.3、波長780nmの屈折率が3.1~3.8、消衰係数が1.5~3.4で、透明基板と金属吸収層の界面反射による可視波長領域の最高反射率が40%以下であることを特徴とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)