IL2015050703 PROCÉDÉ ET SYSTÈME POUR AJUSTER UN MOTIF LUMINEUX POUR IMAGERIE LUMINEUSE STRUCTURÉE

1. (WO2016005976) PROCÉDÉ ET SYSTÈME POUR AJUSTER UN MOTIF LUMINEUX POUR IMAGERIE LUMINEUSE STRUCTURÉE

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Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication :		WO/2016/005976		N° de la demande internationale :		PCT/IL2015/050703
Date de publication :		14.01.2016		Date de dépôt international :		07.07.2015

CIB :

G01S 17/89 (2006.01), G02B 27/42 (2006.01), G01B 11/25 (2006.01)

Déposants :

FACEBOOK, INC. [--/US]; 1601 Willow Road Menlo Park, CA 94025 (US)

Inventeurs :

RAZ, Guy; (IL)

Données relatives à la priorité :

62/021,942

08.07.2014

Titre

(EN) METHOD AND SYSTEM FOR ADJUSTING LIGHT PATTERN FOR STRUCTURED LIGHT IMAGING
(FR) PROCÉDÉ ET SYSTÈME POUR AJUSTER UN MOTIF LUMINEUX POUR IMAGERIE LUMINEUSE STRUCTURÉE

Abrégé :

(EN)A system and a method for producing an adjustable light pattern are provided herein. The system may include: a transmitter configured to illuminate a scene with a patterned light being adjusted based on predefined criteria; a receiver configured to receive reflections of the adjusted patterned light; and a computer processor configured to control the adjustment of the patterned light and further analyze the received reflections, to yield a depth map of objects within the scene, wherein the transmitter may include: a light source configured to produce a light beam; a first reflector tiltable approximately along a line on an x-y plane in a Cartesian x-y-z coordinate system; and a second reflector tiltable along a z-axis in said coordinate system, wherein the reflectors are tilted along their respective axes back and forth so as to divert the light beam for creating the adjusted patterned light.
(FR)La présente invention concerne un système et un procédé pour produire un motif lumineux ajustable. Le système peut comprendre : un émetteur conçu pour éclairer une scène avec un motif lumineux ajusté en fonction de critères prédéfinis ; un récepteur conçu pour recevoir des réflexions du motif lumineux ajusté ; et un processeur d'ordinateur conçu pour commander l'ajustement du motif lumineux et en outre pour analyser les réflexions reçues, pour produire une carte de profondeur d'objets dans la scène. L'émetteur peut comprendre : une source lumineuse conçue pour produire un faisceau lumineux ; un premier réflecteur inclinable approximativement le long d'une ligne sur un plan x-y dans un système de coordonnées cartésien x-y-z ; et un second réflecteur inclinable le long d'un axe z dans ledit système de coordonnées, les réflecteurs étant inclinés le long de leurs axes respectifs en va-et-vient afin de dévier le faisceau lumineux pour créer le motif lumineux ajusté.

États désignés :

AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).

Langue de publication :	anglais (EN)
Langue de dépôt :	anglais (EN)

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