WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2016002901) COMPOSITION DE FORMATION DE COUCHE DE PASSIVATION, SUBSTRAT SEMI-CONDUCTEUR À COUCHE DE PASSIVATION, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SUBSTRAT SEMI-CONDUCTEUR À COUCHE DE PASSIVATION, ÉLÉMENT DE CELLULE SOLAIRE, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉLÉMENT DE CELLULE SOLAIRE, ET CELLULE SOLAIRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/002901    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/069192
Date de publication : 07.01.2016 Date de dépôt international : 02.07.2015
CIB :
H01L 31/0216 (2014.01), H01L 21/316 (2006.01)
Déposants : HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. [JP/JP]; 9-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1006606 (JP)
Inventeurs : HAYASAKA, Tsuyoshi; (JP).
YOSHIDA, Masato; (JP).
NOJIRI, Takeshi; (JP).
KURATA, Yasushi; (JP).
TANAKA, Tooru; (JP).
MORISHITA, Masatoshi; (JP).
KODAMA, Shunsuke; (JP)
Mandataire : TAIYO, NAKAJIMA & KATO; TAIYO, NAKAJIMA & KATO, 3-17, Shinjuku 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-138951 04.07.2014 JP
Titre (EN) COMPOSITION FOR FORMING PASSIVATION LAYER, SEMICONDUCTOR SUBSTRATE WITH PASSIVATION LAYER, METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE WITH PASSIVATION LAYER, SOLAR CELL ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING SOLAR CELL ELEMENT, AND SOLAR CELL
(FR) COMPOSITION DE FORMATION DE COUCHE DE PASSIVATION, SUBSTRAT SEMI-CONDUCTEUR À COUCHE DE PASSIVATION, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SUBSTRAT SEMI-CONDUCTEUR À COUCHE DE PASSIVATION, ÉLÉMENT DE CELLULE SOLAIRE, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉLÉMENT DE CELLULE SOLAIRE, ET CELLULE SOLAIRE
(JA) パッシベーション層形成用組成物、パッシベーション層付半導体基板及びその製造方法、太陽電池素子及びその製造方法、並びに太陽電池
Abrégé : front page image
(EN)A first composition for forming a passivation layer, which contains a compound represented by general formula (I) and water; and a second composition for forming a passivation layer, which contains a hydrolysis product of a compound represented by general formula (I). M(OR1)m General formula (I) (In general formula (I), M represents at least one substance selected from the group consisting of Al, Nb, Ta, VO, Y and Hf; each R1 independently represents an alkyl group or an aryl group; and m represents an integer of 1-5.)
(FR)L'invention concerne une première composition de formation d'une couche de passivation, qui contient un composé représenté par la formule générale (I) et de l'eau ; et une seconde composition de formation d'une couche de passivation, qui contient un produit d'hydrolyse d'un composé représenté par la formule générale (I). M(OR1)m formule générale (I) (Dans la formule générale (I), M représente au moins une substance choisie dans le groupe constitué par Al, Nb, Ta, VO, Y et Hf ; chaque R1 représente indépendamment un groupe alkyle ou un groupe aryle ; et m représente un nombre entier de 1 à 5.)
(JA) 下記一般式(I)で表される化合物と、水と、を含む第1のパッシベーション層形成用組成物及び下記一般式(I)で表される化合物の加水分解物を含む第2のパッシベーション層形成用組成物。一般式(I):M(OR[一般式(I)中、MはAl、Nb、Ta、VO、Y及びHfからなる群より選択される少なくとも1種を表す。Rはそれぞれ独立してアルキル基又はアリール基を表す。mは1~5の整数を表す。]
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)