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1. (WO2015178003) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTROLUMINESCENT, ET DISPOSITIF ÉLECTROLUMINESCENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2015/178003 N° de la demande internationale : PCT/JP2015/002477
Date de publication : 26.11.2015 Date de dépôt international : 18.05.2015
CIB :
H05B 33/10 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/24 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
B
CHAUFFAGE ÉLECTRIQUE; ÉCLAIRAGE ÉLECTRIQUE NON PRÉVU AILLEURS
33
Sources de lumière électroluminescentes
10
Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication des sources de lumière électroluminescentes
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
51
Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
50
spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED)
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
B
CHAUFFAGE ÉLECTRIQUE; ÉCLAIRAGE ÉLECTRIQUE NON PRÉVU AILLEURS
33
Sources de lumière électroluminescentes
12
Sources de lumière avec des éléments radiants ayant essentiellement deux dimensions
22
caractérisées par la composition chimique ou physique ou la disposition des couches auxiliaires diélectriques ou réfléchissantes
24
des couches réfléchissantes métalliques
Déposants :
株式会社JOLED JOLED INC. [JP/JP]; 東京都千代田区神田錦町三丁目23番地 23, Kandanishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054, JP
Inventeurs :
山田 隆太 YAMADA, Ryuta; null
Mandataire :
特許業務法人 ナカジマ知的財産綜合事務所 NAKAJIMA & ASSOCIATES IP FIRM; 大阪府大阪市北区豊崎三丁目2番1号淀川5番館6F 6F, Yodogawa 5-Bankan, 2-1, Toyosaki 3-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5310072, JP
Données relatives à la priorité :
2014-10502221.05.2014JP
Titre (EN) MANUFACTURING METHOD FOR LIGHT EMITTING DEVICE AND LIGHT EMITTING DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTROLUMINESCENT, ET DISPOSITIF ÉLECTROLUMINESCENT
(JA) 発光デバイスの製造方法および発光デバイス
Abrégé :
(EN) Provided is a manufacturing method for a light emitting device formed by disposing on a substrate a first light emitting element and a second light emitting element that have the same light emission color and that include: a first electrode and a second electrode one of which has light reflecting properties and the other of which has light transmitting properties; and, disposed between the first and second electrodes, a laminated structure of a plurality of functional layers which include a first layer and a second layer. In the manufacturing method, the first layer of the first light emitting element and the second light emitting element is formed by a sputtering method, and the second layer of the first light emitting element and the second light emitting element is formed by a coating method. If the optical film thickness of the first layer of the first light emitting element is Ds1, the optical film thickness of the first layer of the second light emitting element is Ds2, the optical film thickness of the second layer of the first light emitting element is Dw1, and the optical film thickness of the second layer of the second light emitting element is Dw2, the relationships Ds1Dw2 are satisfied.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication d'un dispositif électroluminescent formé par disposition, sur un substrat, d'un premier élément électroluminescent et d'un deuxième élément électroluminescent qui ont la même couleur d'émission de lumière et qui comprennent : une première électrode et une seconde électrode dont l'une possède des propriétés de réflexion de la lumière et l'autre possède des propriétés de transmission de la lumière ; et, disposée entre les première et seconde électrodes, une structure stratifiée d'une pluralité de couches fonctionnelles qui comprennent une première couche et une deuxième couche. Dans le procédé de fabrication, la première couche du premier élément électroluminescent et du deuxième élément électroluminescent est formée par un procédé de pulvérisation cathodique, et la deuxième couche du premier élément électroluminescent et du deuxième élément électroluminescent est formée par un procédé d'application de revêtement. Si l'épaisseur de film optique de la première couche du premier élément électroluminescent est Ds1, l'épaisseur de film optique de la première couche du deuxième élément électroluminescent est Ds2, l'épaisseur de film optique de la deuxième couche du premier élément électroluminescent est Dw1, et l'épaisseur de film optique de la deuxième couche du deuxième élément électroluminescent est Dw2, les relations Ds1 < Ds2 et Dw1 > Dw2 sont satisfaites.
(JA)  一方が光反射性を有し他方が光透過性を有する第1電極および第2電極と、これらの間に配され、第1層および第2層を含む複数の機能層の積層構造とを有する発光色が同じ第1発光素子および第2発光素子が基板上に配されて成る発光デバイスの製造方法である。当該製造方法において、第1発光素子および第2発光素子の第1層をスパッタ法で形成し、第1発光素子および第2発光素子の第2層を塗布法で形成する。そして、第1発光素子の第1層の光学膜厚をDs1、第2発光素子の第1層の光学膜厚をDs2、第1発光素子の第2層の光学膜厚をDw1、第2発光素子の第2層の光学膜厚をDw2とした場合、Ds1<Ds2且つDw1>Dw2の関係を満たす。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)