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1. (WO2015174929) FABRICATION D'ÉLÉMENTS OPTIQUES PAR RÉPLICATION ET OUTILS DE RÉPLICATION CORRESPONDANT ET DISPOSITIFS OPTIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2015/174929 N° de la demande internationale : PCT/SG2015/050112
Date de publication : 19.11.2015 Date de dépôt international : 14.05.2015
CIB :
B29B 11/00 (2006.01) ,B29C 59/02 (2006.01) ,G02B 3/00 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
29
TRAVAIL DES MATIÈRES PLASTIQUES; TRAVAIL DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL
B
PRÉPARATION OU PRÉTRAITEMENT DES MATIÈRES À FAÇONNER; FABRICATION DE GRANULÉS OU DE PRÉFORMES; RÉCUPÉRATION DES MATIÈRES PLASTIQUES OU D'AUTRES CONSTITUANTS DES DÉCHETS CONTENANT DES MATIÈRES PLASTIQUES
11
Fabrication de préformes
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
29
TRAVAIL DES MATIÈRES PLASTIQUES; TRAVAIL DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL
C
FAÇONNAGE OU ASSEMBLAGE DES MATIÈRES PLASTIQUES; FAÇONNAGE DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL; POST-TRAITEMENT DES PRODUITS FAÇONNÉS, p.ex. RÉPARATION
59
Façonnage de surface, p.ex. gaufrage; Appareils à cet effet
02
par des moyens mécaniques, p.ex. par pressage
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
3
Lentilles simples ou composées
Déposants :
HEPTAGON MICRO OPTICS PTE. LTD. [SG/SG]; 26 Woodlands Loop Singapore 738317, SG
Inventeurs :
BIETSCH, Alexander; CH
BARGE, Michel; CH
Mandataire :
ALLEN & GLEDHILL LLP; One Marina Boulevard #28-00 Singapore 018989, SG
Données relatives à la priorité :
61/994,31516.05.2014US
Titre (EN) MANUFACTURE OF OPTICAL ELEMENTS BY REPLICATION AND CORRESPONDING REPLICATION TOOLS AND OPTICAL DEVICES
(FR) FABRICATION D'ÉLÉMENTS OPTIQUES PAR RÉPLICATION ET OUTILS DE RÉPLICATION CORRESPONDANT ET DISPOSITIFS OPTIQUES
Abrégé :
(EN) A replication tool (10) for producing an optical structure comprising an optical element, is described. It comprises - a central section (c) having the shape defining a negative of a portion of the optical structure and a vertically aligned central axis (A); - a surrounding section (s) laterally surrounding the central section (c); and - one or more contact standoffs (15) defining a plane referred to as contact plane (5a). In a first azimuthal range, the surrounding portion provides a first compensation surface (f1) facing away from the central axis (A), and in a second azimuthal range, the surrounding portion provides a second compensation surface (f1) facing away from the central axis (A). In any cross-section containing the central axis (A) in the second azimuthal range, a steepness of the second compensation surface (f2) is higher than a steepness of the first compensation surface (f1) in any cross-section containing the central axis (A) in the first azimuthal range. Corresponding optical devices and also a corresponding method for manufacturing an optical structure using the replication tool20 (10) are described, too. The invention can be used for achieving a locally reduced footprint of the optical structure on a substrate (5) in wafer-level mass production.
(FR) L'invention concerne un outil de réplication (10) pour produire une structure optique comprenant un élément optique. Ledit outil comprend - une section centrale (c) dont la forme définit un négatif d'une partie de la structure optique et un axe central aligné verticalement (A) ; - une section environnante (s) entourant latéralement la section centrale (c) ; et - un ou plusieurs éléments d'espacement (15) définissant un plan désigné comme plan de contact (5a). Dans une première plage azimutale, la partie environnante forme une première surface de compensation (f1) tournée à l'opposé de l'axe central (A), et dans une seconde plage azimutale, la partie environnante forme une seconde surface de compensation (f1) tournée à l'opposé de l'axe central (A). Dans toute section transversale contenant l'axe central (A) dans la seconde plage azimutale, une inclinaison de la seconde surface de compensation (f2) est supérieure à une inclinaison de la première surface de compensation (f1) dans n'importe quelle section transversale contenant l'axe central (A) dans la première plage azimutale. Des dispositifs optiques correspondants et également un procédé correspondant de fabrication d'une structure optique utilisant l'outil de réplication (10) sont décrits. L'invention peut être utilisée pour obtenir un encombrement localement réduit de la structure optique sur un substrat (5) dans une production de masse au niveau tranche.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)
Also published as:
SG11201609212WEP3142839US20170090074CN106536143KR1020170031661JP2017516162