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1. (WO2015137217) FEUILLE RÉTRORÉFLÉCHISSANTE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/137217    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/056413
Date de publication : 17.09.2015 Date de dépôt international : 04.03.2015
CIB :
G02B 5/124 (2006.01), E01F 9/016 (2006.01)
Déposants : NIPPON CARBIDE INDUSTRIES CO., INC. [JP/JP]; 16-2, Konan 2-chome , Minato-ku, Tokyo 1088466 (JP)
Inventeurs : SHIOMI Toshiaki; (JP).
HAYASHI Chihiro; (JP).
MIMURA Ikuo; (JP)
Mandataire : MORIMURA Yasuo; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-052689 14.03.2014 JP
Titre (EN) RETROREFLECTIVE SHEET
(FR) FEUILLE RÉTRORÉFLÉCHISSANTE
(JA) 再帰反射シート
Abrégé : front page image
(EN)This retroreflective sheet (1) has the following: a single retroreflective layer (10) consisting of both a flat retainer section (11) and an integrated retroreflective-element section (12) comprising a plurality of retroreflective elements formed on the retainer section (11); and a space-forming layer (20) that partially contacts the surface of the retroreflective layer (10) where the retroreflective-element section (12) is, forming a space between said space-forming layer (20) and the retroreflective-element section (12). The elastic modulus of the retroreflective layer (10) is between 9.0×108 Pa and 15.0×108 Pa, inclusive, and the ratio of the thickness (TH2) of the retainer section (11) to the thickness (TH1) of the retroreflective-element section (12) is between 0.5 and 1.0, inclusive.
(FR)La présente invention concerne une feuille rétroréfléchissante (1) qui comprend les éléments suivants : une seule couche rétroréfléchissante (10) constituée à la fois d'une section de retenue plate (11) et d'une section à éléments rétroréfléchissants intégrés (12) comportant une pluralité d'éléments rétroréfléchissants formés sur la section de retenue (11) ; et une couche de formation d'espace (20) en contact partiel avec la surface de la couche rétroréfléchissante (10) où se trouve la section à éléments rétroréfléchissants (12), ce qui forme un espace entre ladite couche de formation d'espace (20) et la section à éléments rétroréfléchissants (12). Le module d'élasticité de la couche rétroréfléchissante (10) est compris entre 9,0 × 108 Pa et 15,0 × 108 Pa inclus, et le rapport entre l'épaisseur (TH2) de la section de retenue (11) et l'épaisseur (TH1) de la section à éléments rétroréfléchissants (12) est compris entre 0,5 et 1,0 inclus.
(JA) 本発明の再帰反射シート1は、板状の部位である保持体部11と、保持体部11に形成される複数の再帰反射素子からなる再帰反射素子部12とを一体化した単層の再帰反射層10と、当該再帰反射層10の再帰反射素子部12側の表面と部分的に密着して、再帰反射素子部12と自身との間に空間を形成する空間形成層20とを備える。再帰反射層10の弾性率は9.0×10Pa以上15.0×10Pa以下であり、再帰反射素子部12の厚さTH1に対する保持体部11の厚さTH2の比は、0.5以上1.0以下である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)