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1. (WO2015105188) FILM FORMANT BARRIÈRE CONTRE LES GAZ ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE LE COMPRENANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/105188    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/050535
Date de publication : 16.07.2015 Date de dépôt international : 09.01.2015
CIB :
B32B 27/34 (2006.01), B32B 9/00 (2006.01)
Déposants : KONICA MINOLTA, INC. [JP/JP]; 2-7-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1007015 (JP)
Inventeurs : OBUCHI, Reiko; (JP)
Mandataire : HATTA & ASSOCIATES; Dia Palace Nibancho, 11-9, Nibancho, Chiyoda-ku, Tokyo 1020084 (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-003511 10.01.2014 JP
Titre (EN) GAS BARRIER FILM AND ELECTRONIC DEVICE COMPRISING SAME
(FR) FILM FORMANT BARRIÈRE CONTRE LES GAZ ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE LE COMPRENANT
(JA) ガスバリア性フィルムおよびこれを含む電子デバイス
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a gas barrier film that can be suitably applied to a device formation step. The gas barrier film comprises a polyimide substrate and a gas barrier layer that contains a modified polysilazane product. The adhesive strength between the polyimide substrate and the gas barrier layer is 1.3 N/cm or higher.
(FR)L'invention concerne un film formant barrière pouvant être appliqué judicieusement à une étape de formation de dispositif. Le film formant barrière comprend un substrat de polyimide et une couche barrière contre les gaz qui contient un produit de polysilazane modifié. La force adhésive entre le substrat de polyimide et la couche barrière contre les gaz est de 1,3N/cm ou plus.
(JA)デバイス形成工程に好適に適用できるガスバリア性フィルムを提供する。ポリイミド基材と、ポリシラザン改質物を含むガスバリア層と、を有し、前記ポリイミド基材および前記ガスバリア層の接着強度が、1.3N/cm以上である、ガスバリア性フィルム。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)