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1. (WO2015101460) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE CONCEPTION D’UNE CIBLE DE MÉTROLOGIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/101460    N° de la demande internationale :    PCT/EP2014/076544
Date de publication : 09.07.2015 Date de dépôt international : 04.12.2014
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Inventeurs : CHEN, Guangqing; (US).
LIU, Wei; (US).
VAN DER SCHAAR, Maurits; (NL)
Mandataire : PETERS, John; (NL)
Données relatives à la priorité :
61/921,939 30.12.2013 US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR DESIGN OF A METROLOGY TARGET
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE CONCEPTION D’UNE CIBLE DE MÉTROLOGIE
Abrégé : front page image
(EN)A method of metrology target design is described. The method includes determining a sensitivity of a parameter of a metrology target design to a perturbation of a process parameter for forming, or measuring the formation of, the metrology target, and determining a robustness of the metrology target design based on the sum of the sensitivity multiplied by the perturbation of at least one of the process parameters.
(FR)La présente invention concerne un procédé de conception d’une cible de métrologie. Le procédé consiste à : déterminer une sensibilité d’un paramètre de conception d’une cible de métrologie à une perturbation d’un paramètre de processus pour la formation, ou la mesure de la formation, de la cible de métrologie ; et déterminer une robustesse de la conception de la cible de métrologie sur la base de la somme de la sensibilité multipliée par la perturbation d’au moins un des paramètres de processus.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)