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1. (WO2014176211) LITHOGRAPHIE À TONS POSITIFS SANS RÉVÉLATEUR PAR ÉCRITURE THERMIQUE DIRECTE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/176211    N° de la demande internationale :    PCT/US2014/034910
Date de publication : 30.10.2014 Date de dépôt international : 22.04.2014
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), G03F 1/00 (2012.01)
Déposants : MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY [US/US]; 77 Massachusetts Avenue Cambridge, MA 02139 (US)
Inventeurs : SINGER, Jonathan, Phillip; (US).
LIN, Pao, Tai; (US).
THOMAS, Edwin, Lorimer; (US)
Mandataire : CONNORS, Matthew, E.; Gesmer Updegrove LLP 40 Broad Street Boston, MA 02109 (US)
Données relatives à la priorité :
61/814,889 23.04.2013 US
14/256,419 18.04.2014 US
Titre (EN) DEVELOPER FREE POSITIVE TONE LITHOGRAPHY BY THERMAL DIRECT WRITE
(FR) LITHOGRAPHIE À TONS POSITIFS SANS RÉVÉLATEUR PAR ÉCRITURE THERMIQUE DIRECTE
Abrégé : front page image
(EN)A method for lithographic patterning of thin films. A thin film is deposited on a substrate and the film is exposed to optical energy from a focused laser to induce a thermal gradient in the film by optical absorption. The film is softened through a melting or glass transition process and the thermal gradient induces a directional dewetting down the thermal gradient. The invention permits developer free positive tone lithography by thermal direct write and also metrology of the thin film by the morphology of the resultant features.
(FR)La présente invention concerne un procédé de formation de motif lithographique de films minces. Un film mince est déposé sur un substrat et le film est exposé à une énergie optique en provenance d'un laser focalisé de façon à entraîner un gradient thermique dans le film par absorption optique. Le film est ramolli au moyen d'un processus de fusion ou de transition vitreuse et le gradient thermique entraîne un démouillage directionnel le long du gradient thermique. L'invention permet une lithographie à tons positifs sans révélateur par écriture thermique directe et permet également une métrologie du film mince par la morphologie des caractéristiques obtenues.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)