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1. (WO2014175231) COMPOSITION DE RÉSINE ET SON UTILISATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/175231    N° de la demande internationale :    PCT/JP2014/061202
Date de publication : 30.10.2014 Date de dépôt international : 21.04.2014
CIB :
C08L 101/00 (2006.01), C03C 27/12 (2006.01), C08K 5/521 (2006.01), C08K 5/5317 (2006.01), C08L 23/08 (2006.01), C08L 29/14 (2006.01)
Déposants : KUREHA CORPORATION [JP/JP]; 3-3-2, Nihonbashi-Hamacho, Chuo-ku, Tokyo 1038552 (JP)
Inventeurs : IWAMA, Hideki; (JP).
MACHIDA, Katsuichi; (JP)
Mandataire : SSINPAT PATENT FIRM; Gotanda Yamazaki Bldg. 6F, 13-6, Nishigotanda 7-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1410031 (JP)
Données relatives à la priorité :
2013-093826 26.04.2013 JP
Titre (EN) RESIN COMPOSITION AND USE THEREOF
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE ET SON UTILISATION
(JA) 樹脂組成物およびその用途
Abrégé : front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a resin composition containing a near-infrared ray absorbent, which has excellent light resistance and heat resistance. The resin composition according to the present invention comprises a near-infrared ray absorbent, a phosphoric acid triester and a resin, wherein the near-infrared ray absorbent comprises microparticles each comprising a phosphonic acid copper salt represented by general formula (1) [wherein R1 represents a monovalent group represented by the formula -CH2CH2-R11; and R11 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or a fluorinated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms], and the phosphoric acid triester is a phosphoric acid triester represented by general formula (2) [wherein R's independently represent an alkyl group, an alkenyl group, a phenyl group, or a phenyl group having a substituent].
(FR)L'objet de la présente invention est de proposer une composition de résine contenant une substance absorbant le rayonnement infrarouge proche et se révélant très résistante à la lumière et à la chaleur. La composition de résine selon la présente invention contient une substance absorbant le rayonnement infrarouge proche, un triester d'acide phosphorique et une résine, ladite substance absorbant le rayonnement infrarouge proche contenant des microparticules comprenant chacune un sel de cuivre d'acide phosphonique représenté par la formule générale (1) [dans laquelle R1 représente un groupe monovalent de formule -CH2CH2-R11 ; et R11 représente un atome d'hydrogène, un groupe alkyle comportant de 1 à 20 atomes de carbone ou un groupe alkyle fluoré comportant de 1 à 20 atomes de carbone] et le triester d'acide phosphorique étant un triester d'acide phosphorique représenté par la formule générale (2) [dans laquelle R's représente indépendamment un groupe alkyle, un groupe alcényle, un groupe phényle ou un groupe phényle comportant un substituant].
(JA) 耐光性および耐熱性に優れる、近赤外線吸収剤を含有する樹脂組成物を提供することを目的とし、本発明の樹脂組成物は、近赤外線吸収剤と、リン酸トリエステルと、樹脂とからなる樹脂組成物であり、前記近赤外線吸収剤が、下記一般式(1)[式中、R1は、-CH2CH2-R11で表される1価の基であり、R11は水素原子、炭素数1~20のアルキル基、または炭素数1~20のフッ素化アルキル基を示す。]で表わされるホスホン酸銅塩からなる微粒子であり、前記リン酸トリエステルが、下記一般式(2)[式中、Rはそれぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、フェニル基、または置換基を有するフェニル基である。]で表されるリン酸トリエステルである。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)