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1. (WO2014157025) LIQUIDE DE DISPERSION PERMETTANT DE FORMER UN FILM MINCE DE MODULATION D'INDICE DE RÉFRACTION ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE BASE OPTIQUE COMPORTANT LE FILM MINCE DE MODULATION D'INDICE DE RÉFRACTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/157025    N° de la demande internationale :    PCT/JP2014/057965
Date de publication : 02.10.2014 Date de dépôt international : 24.03.2014
CIB :
G02B 1/11 (2006.01), B32B 7/02 (2006.01)
Déposants : JAPAN NANOCOAT CO. LTD. [JP/JP]; Daisho bldg. 4F, 32-3, Asakusabashi 3-chome, Taito-ku, Tokyo 1110053 (JP).
KOIZUMI CORPORATION [JP/JP]; 20-19, Inogashira 4-chome, Mitaka-shi, Tokyo 1010047 (JP)
Inventeurs : SHIMADA Masayuki; (JP)
Mandataire : WATARAI Yusuke; 3048-9, Kamihongou, Matsudo-shi, Chiba 2710064 (JP)
Données relatives à la priorité :
2013-061336 25.03.2013 JP
Titre (EN) DISPERSION LIQUID FOR FORMING REFRACTIVE INDEX MODULATION THIN FILM AND METHOD FOR PRODUCING OPTICAL BASE HAVING REFRACTIVE INDEX MODULATION THIN FILM
(FR) LIQUIDE DE DISPERSION PERMETTANT DE FORMER UN FILM MINCE DE MODULATION D'INDICE DE RÉFRACTION ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE BASE OPTIQUE COMPORTANT LE FILM MINCE DE MODULATION D'INDICE DE RÉFRACTION
(JA) 屈折率調整薄膜形成用分散液、および屈折率調整薄膜を有する光学基材の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide: a dispersion liquid which is capable of forming, at normal temperature, a refractive index modulation thin film that is capable of precisely controlling a refractive index and has a large area; and a method for producing an optical base having a refractive index modulation thin film using this dispersion liquid at normal temperature. A dispersion liquid for forming a refractive index modulation thin film having a refractive index of 1.31-1.75, which is characterized by containing high-refractive-index nanoparticles having an average particle diameter of 2-9 nm as measured by a transmission electron microscope, silica nanoparticles having an average particle diameter of 1-9 nm as measured by a transmission electron microscope, and a solvent. A method for producing an optical base having a refractive index modulation thin film that is formed using this dispersion liquid for forming a refractive index modulation thin film at normal temperature.
(FR)La présente invention a pour objet de fournir : un liquide de dispersion permettant de former, à une température normale, un film mince de modulation d'indice de réfraction qui permette de commander avec précision un indice de réfraction et qui ait une grande surface; et un procédé de production d'une base optique comportant un film mince de modulation d'indice de réfraction utilisant ledit liquide de dispersion à une température normale. L'invention concerne donc un liquide de dispersion permettant de former un film mince de modulation d'indice de réfraction ayant un indice de réfraction de 1,31 à 1,75, qui est caractérisé par le fait qu'il contient des nanoparticules à indice de réfraction élevé ayant un diamètre moyen de particules de 2 à 9 nm, mesuré par un microscope électronique à transmission, des nanoparticules de silice ayant un diamètre moyen de particules de 1 à 9 nm, mesuré par un microscope électronique à transmission, et un solvant. L'invention concerne en outre un procédé de production d'une base optique comportant un film mince de modulation d'indice de réfraction qui est formé au moyen dudit liquide de dispersion dans le but de former un film mince de modulation d'indice de réfraction à une température normale.
(JA) 屈折率の精密な制御が可能であり、常温で大面積の屈折率調整薄膜を形成可能な分散液、およびこの分散液を用いた常温での屈折率調整薄膜を有する光学用基材の製造方法を提供にすることを目的とする。 透過型電子顕微鏡で測定した平均粒径が2~9nmである高屈折率のナノ粒子と、透過型電子顕微鏡で測定した平均粒径が1~9nmのシリカのナノ粒子と、溶媒とを含むことを特徴とする、屈折率が1.31~1.75の屈折率調整薄膜形成用分散液、およびこの屈折率調整薄膜形成用分散液を使用して常温で製造される屈折率調整薄膜を有する光学用基材の製造方法である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)