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1. (WO2014090635) SYSTÈME OPTIQUE D'APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/090635    N° de la demande internationale :    PCT/EP2013/075383
Date de publication : 19.06.2014 Date de dépôt international : 03.12.2013
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), G02B 17/06 (2006.01), G02B 27/28 (2006.01)
Déposants : CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE) (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IR, IS, IT, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW only).
MAUL, Manfred [DE/DE]; (DE) (US only)
Inventeurs : MAUL, Manfred; (DE)
Mandataire : FRANK, Hartmut; BONSMANN · BONSMANN · FRANK Reichspräsidentenstrasse 21-25 45470 Mülheim a.d. Ruhr (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2012 223 233.8 14.12.2012 DE
61/737,153 14.12.2012 US
Titre (EN) OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
(FR) SYSTÈME OPTIQUE D'APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to an optical system of a microlithographic projection exposure apparatus, in particular for operation in the EUV, comprising a mirror arrangement (200) composed of a plurality of mutually independently adjustable mirror elements, and at least one polarization-influencing arrangement (100) arranged upstream of the mirror arrangement (200) relative to the light propagation direction, wherein the polarization-influencing arrangement (100) has a group of first reflection surfaces (111, 112,...) and a group of second reflection surfaces (121, 122,...), wherein the first reflection surfaces (111, 112,...) are tiltable independently of one another, and wherein, during the operation of the optical system, light reflected at respectively one of the first reflection surfaces (111, 112,...) can be directed onto the mirror arrangement (200) via respectively a different one of the second reflection surfaces (121, 122,...) depending on the tilting of said first reflection surface (111, 112,...).
(FR)L'invention concerne un système optique d'appareil d'exposition par projection microlithographique, en particulier pour une utilisation dans l'EUV, comprenant un agencement de miroirs (200) ayant une pluralité d'éléments miroirs qui sont réglables indépendamment les uns des autres, au moins un agencement influençant la polarisation (100) qui est agencé en amont de l'agencement de miroirs (200) dans la direction de propagation de lumière, l'agencement influençant la polarisation (100) ayant un groupe de premières surfaces de réflexion (111, 112,...) et un groupe de deuxièmes surfaces de réflexion (121, 122,...), les premières surfaces de réflexion (111, 112,...) étant inclinables indépendamment les unes des autres et, durant le fonctionnement du système optique, la lumière réfléchie respectivement par l'une des premières surfaces de réflexion (111, 112,...) peut être dirigée sur l'agencement de miroirs (200) respectivement par l'intermédiaire d'une surface différente parmi les deuxièmes surfaces de réflexion (121, 122,...) en fonction de l'inclinaison de ladite première surface de réflexion (111, 112,...).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)