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1. (WO2014090480) SOURCE D'ALIMENTATION POUR UN APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET APPAREIL LITHOGRAPHIQUE COMPRENANT UNE TELLE SOURCE D'ALIMENTATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/090480    N° de la demande internationale :    PCT/EP2013/072927
Date de publication : 19.06.2014 Date de dépôt international : 04.11.2013
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), H05G 2/00 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Inventeurs : MESTROM, Wilbert; (NL).
LABETSKI, Dzmitry; (NL).
SWINKELS, Gerardus; (NL)
Mandataire : SIEM, Max Yoe Shé; P.O. Box 324 P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Données relatives à la priorité :
61/736,365 12.12.2012 US
Titre (EN) POWER SOURCE FOR A LITHOGRAPHIC APPARATUS, AND LITHOGRAPHIC APPARATUS COMPRISING SUCH A POWER SOURCE
(FR) SOURCE D'ALIMENTATION POUR UN APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET APPAREIL LITHOGRAPHIQUE COMPRENANT UNE TELLE SOURCE D'ALIMENTATION
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a radiation source configured to generate a beam of EUV radiation by excitation of a fuel. The radiation source comprises a gas stream generation module which preconditions a droplet of the fuel by application of a high velocity gas stream to the droplet. Also disclosed is a lithographic apparatus comprising such a radiation source.
(FR)L'invention concerne une source de rayonnement conçue pour générer un faisceau de rayonnement EUV par excitation d'un carburant. La source de rayonnement comprend un module de génération de flux de gaz qui conditionne au préalable une goutte du carburant en appliquant un flux de gaz à haute vitesse à la goutte. L'invention concerne également un appareil lithographique comprenant une source de rayonnement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)