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1. (WO2014084405) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN COMPOSÉ HALOGÉNÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/084405    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/082510
Date de publication : 05.06.2014 Date de dépôt international : 27.11.2013
CIB :
C07D 285/14 (2006.01)
Déposants : SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260 (JP)
Inventeurs : YOSHIMURA, Ken; (JP)
Mandataire : NAKAYAMA, Tohru; c/o Sumitomo Chemical Intellectual Property Service, Limited, 5-33, Kitahama 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5418550 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-262287 30.11.2012 JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING A HALOGEN COMPOUND
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN COMPOSÉ HALOGÉNÉ
(JA) ハロゲン化合物の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A method for reacting a compound represented by formula (A) and a compound represented by formula (B) in a solvent and producing a halogen compound represented by formula (C). (In formula (A), Y1 represents a sulfur atom or the like, X1 and X2 are the same or different and represent a nitrogen atom or the like, and Z1 and Z2 each independently represent a hydrogen atom, monovalent organic radical, halogen atom, cyano radical, or nitro radical; however, at least one of Z1 and Z2 is a radical selected from the group consisting of a halogen atom, fluoroalkyl radical, fluoroaryl radical, cyano radical, and nitro radical. In formula (B), W1-W3 represent an oxygen atom or the like, and Q1-Q3 are the same or different and represent a hydrogen atom or halogen atom; however, at least one of Q1-Q3 represents a halogen atom. In formula (C), Y1, X1, X2, Z1, and Z2 represent the same moieties as above, and U1 and U2 are the same or different and represent halogen atoms.)
(FR)La présente invention concerne un procédé consistant à faire réagir un composé représenté par la formule (A) et un composé représenté par la formule (B) dans un solvant en vue de la production d'un composé halogéné représenté par la formule (C). Dans la formule (A), Y1 représente un atome de soufre ou équivalent, X1 et X2 sont identiques ou différents et représentent un atome d'azote ou équivalent, et Z1 et Z2 représentent, indépendamment, un atome d'hydrogène, un radical organique monovalent, un atome d'halogène, un radical cyano ou un radical nitro, sous réserve, toutefois, que Z1 et/ou Z2 représentent un radical choisi dans le groupe constitué d'un atome d'halogène, d'un radical fluoroalkyle, d'un radical fluoroaryle, d'un radical cyano et d'un radical nitro. Dans la formule (B), W1 à W3 représentent un atome d'oxygène ou équivalent et Q1 à Q3 sont identiques ou différents et représentent un atome d'hydrogène ou un atome d'halogène, sous réserve, toutefois, qu'au moins l'un des trois radicaux Q1 à Q3 représente un atome d'halogène. Dans la formule (C), Y1, X1, X2, Z1 et Z2 représentent les mêmes groupes fonctionnels que ci-dessus et U1 et U2 sont identiques ou différents et représentent des atomes d'halogène.
(JA)下記式(A)で表される化合物と、下記式(B)で表される化合物とを溶媒中で反応させる、下記式(C)で表されるハロゲン化合物の製造方法。〔式(A)中、Yは硫黄原子等、XおよびXは、同一又は相異なり、窒素原子等、ZおよびZはそれぞれ独立に水素原子、1価の有機基、ハロゲン原子、シアノ基、又はニトロ基を表す。ただし、ZおよびZのうちの少なくとも1つはハロゲン原子、フルオロアルキル基、フルオロアリール基、シアノ基、およびニトロ基からなる群から選ばれる基である。式(B)中、W~Wは酸素原子等、Q~Qは同一又は相異なり、水素原子またはハロゲン原子を表す。ただし、Q~Qのうち少なくとも1つはハロゲン原子を表す。式(C)中、Y、X、X、ZおよびZは前述と同じ意味を表し、UおよびUは、同一又は相異なり、ハロゲン原子を表す。〕
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)