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1. (WO2014084319) PRODUIT COSMÉTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/084319    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/082073
Date de publication : 05.06.2014 Date de dépôt international : 28.11.2013
CIB :
A61K 8/892 (2006.01), A61K 8/06 (2006.01), A61Q 5/02 (2006.01), A61Q 5/06 (2006.01), A61Q 5/12 (2006.01), A61Q 19/00 (2006.01)
Déposants : SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 6-1, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000004 (JP)
Inventeurs : Ando Yuji; (JP).
Irifune Shinji; (JP)
Mandataire : USHIKI, Mamoru; 3rd Fl., Yusei Fukushi Kotohira Bldg.,14-1, Toranomon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-261990 30.11.2012 JP
Titre (EN) COSMETIC PREPARATION
(FR) PRODUIT COSMÉTIQUE
(JA) 化粧料
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a cosmetic preparation which has excellent stability and texture. A cosmetic preparation which contains 0.1% by mass or more of (a) an organopolysiloxane emulsion that is obtained by emulsion polymerization and has an octamethyl cyclotetrasiloxane content of 1,000 ppm by mass or less.
(FR)L'invention fournit un produit cosmétique dont la stabilité et la sensation au toucher sont excellentes. Plus précisément, l'invention concerne un produit cosmétique qui est obtenu par une polymérisation en émulsion (a), et qui comprend 0,1% en masse ou plus d'une émulsion d'organopolysiloxane dont la teneur en octaméthylcyclotétrasiloxane est de 1000ppm en masse ou moins.
(JA) 安定性及び感触に優れた化粧料を提供する。 (a) 乳化重合によって得られ、オクタメチルシクロテトラシロキサンの含有量が1000質量ppm以下であるオルガノポリシロキサンエマルション を0.1質量%以上含有する化粧料。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)