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1. (WO2014082813) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE DÉTERMINATION DE QUALITÉ LITHOGRAPHIQUE DE STRUCTURE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/082813    N° de la demande internationale :    PCT/EP2013/072719
Date de publication : 05.06.2014 Date de dépôt international : 30.10.2013
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), G01N 21/47 (2006.01), G01N 21/956 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Inventeurs : GROOTJANS, Willem, Jan; (NL).
GARCIA GRANDA, Miguel; (NL).
KRIST, Jouke; (NL).
MEGENS, Henricus; (NL).
XU, Lu; (NL)
Mandataire : MAAS, Abraham; PO Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Données relatives à la priorité :
61/731,939 30.11.2012 US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR DETERMINING LITHOGRAPHIC QUALITY OF A STRUCTURE
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE DÉTERMINATION DE QUALITÉ LITHOGRAPHIQUE DE STRUCTURE
Abrégé : front page image
(EN)Method for determining lithographic quality of a structure produced by a lithographic process using a periodic pattern, such as a grating, detects lithographic process window edges and optimum process conditions. Method steps are: 602: printing a structure using a lithographic process using a grating pattern; 604: selecting a first characteristic, such as a polarization direction, for the illumination; 606: illuminating the structure with incident radiation with the first characteristic; 608: detecting scattered radiation; 610: selecting a second characteristic, such as a different polarization direction, for the illumination; 612: illuminating the structure with incident radiation with the second characteristic; 614: detecting scattered radiation; 616: rotating one or more angularly resolved spectrum to line up the polarizations, thus correcting for different orientations of the polarizations; 618: determining a difference between the measured angularly resolved spectra; and 620: determining a value of lithographic quality of the structure using the determined difference.
(FR)La présente invention porte sur un procédé de détermination de qualité lithographique de structure produite par un processus lithographique utilisant un motif périodique, tel qu'un réseau, qui détecte des bords de fenêtre de processus lithographique et des conditions de processus optimales. Des étapes de procédé sont : 602 : imprimer une structure à l'aide d'un processus lithographique utilisant un motif de réseau ; 604 : sélectionner une première caractéristique, telle qu'une direction de polarisation, pour l'éclairage ; 606 : éclairer la structure avec un rayonnement incident ayant la première caractéristique ; 608 : détecter un rayonnement diffusé ; 610 : sélectionner une seconde caractéristique, telle qu'une direction de polarisation différente, pour l'éclairage ; 612 : éclairer la structure avec un rayonnement incident ayant la seconde caractéristique ; 614 : détecter un rayonnement diffusé ; 616 : faire tourner un ou plusieurs spectres résolus en angle pour aligner les polarisations, corrigeant ainsi différentes orientations des polarisations ; 618 : déterminer une différence entre les spectres résolus en angle mesurés ; et 620 : déterminer une valeur de qualité lithographique de la structure à l'aide de la différence déterminée.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)