WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2014075881) SOURCE DE RAYONNEMENT ET PROCÉDÉ DE LITHOGRAPHIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/075881    N° de la demande internationale :    PCT/EP2013/072124
Date de publication : 22.05.2014 Date de dépôt international : 23.10.2013
CIB :
H05G 2/00 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Inventeurs : SCHIMMEL, Hendrikus, Gijsbertus; (NL).
RIEPEN, Michel; (NL).
JILISEN, Rene; (NL).
DE GRAAF, Dennis; (NL)
Mandataire : SLENDERS, Peter; ASML Netherlands BV P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Données relatives à la priorité :
61/726,843 15.11.2012 US
61/738,700 18.12.2012 US
Titre (EN) RADIATION SOURCE AND METHOD FOR LITHOGRAPHY
(FR) SOURCE DE RAYONNEMENT ET PROCÉDÉ DE LITHOGRAPHIE
Abrégé : front page image
(EN)A radiation source suitable for providing radiation to a lithographic apparatus generates radiation from a plasma (12) generated from a fuel (31) within an enclosure comprising a gas. The plasma generates primary fuel debris collected as a fuel layer on a debris-receiving surface ((33a), (33b)). The debris-receiving surface is heated to a temperature to maintain the fuel layer as a liquid, and to provide a reduced or zero rate of formation gas bubbles within the liquid fuel layer in order to reduce contamination of optical surfaces (14) by secondary debris arising from gas bubble eruption from the liquid fuel layer. Additionally or alternatively, the radiation source may have a debris receiving surface positioned and/or oriented such that substantially all lines normal to the debris receiving surface do not intersect an optically active surface of the radiation source.
(FR)Une source de rayonnement, appropriée pour fournir un rayonnement à un appareil lithographique, fournit un rayonnement à partir d'un plasma (12) généré à partir d'un carburant (31) dans un boîtier contenant un gaz. Le plasma génère des débris de carburant primaires, recueillis sous forme de couche de carburant sur une surface de réception de débris ((33a), (33b)). La surface de réception de débris est chauffée à une température permettant de maintenir la couche de carburant sous forme liquide, et de fournir un taux réduit ou nul de formation de bulles de gaz dans la couche de carburant liquide afin de réduire la contamination des surfaces optiques (14) par des débris secondaires résultant d'une éruption de bulles de gaz provenant de la couche de carburant liquide. La source de rayonnement peut en outre, ou en variante, présenter une surface de réception de débris positionnée et/ou orientée de sorte que sensiblement toutes les lignes perpendiculaires à la surface de réception de débris ne coupent pas une surface optiquement active de la source de rayonnement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)