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1. WO2014027778 - APPAREIL DE DÉPOSITION À ÉVAPORATION

Numéro de publication WO/2014/027778
Date de publication 20.02.2014
N° de la demande internationale PCT/KR2013/007020
Date du dépôt international 05.08.2013
CIB
H01L 51/56 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
51Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
50spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED)
56Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
C23C 14/24 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
CREVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
22caractérisé par le procédé de revêtement
24Evaporation sous vide
CPC
C23C 14/24
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22characterised by the process of coating
24Vacuum evaporation
Déposants
  • 한국표준과학연구원 KOREA RESEARCH INSTITUTE OF STANDARDS AND SCIENCE [KR]/[KR]
Inventeurs
  • 이주인 LEE, Joo-In
  • 김정형 KIM, Jung-Hyung
  • 신용현 SHIN, Yong-Hyeon
  • 유신재 YOU, ShinJae
  • 유용심 YOO, Yong-Shim
Mandataires
  • 이평우 LEE, Pyung-Woo
Données relatives à la priorité
10-2012-008812513.08.2012KR
Langue de publication coréen (KO)
Langue de dépôt coréen (KO)
États désignés
Titre
(EN) EVAPORATION DEPOSITION APPARATUS
(FR) APPAREIL DE DÉPOSITION À ÉVAPORATION
(KO) 증발 증착 장치
Abrégé
(EN)
The present invention relates to an evaporation deposition apparatus. The apparatus includes: an inlet through which steam is supplied; a baffle that is arranged in the vicinity of the inlet to change the direction of the steam; a spherical or elliptical cavity that reflects the steam; an integrating sphere that has an outlet through which the steam reflected or diffused a plurality of times in the cavity is radially discharged by a point source; a crucible in which an evaporating material is introduced, the crucible supplying the steam evaporated through a first opening to the inlet of the integrating sphere; and a heating unit that is arranged to surround the integrating sphere and the crucible to heat the crucible and the integrating sphere. The integrating sphere is formed of a conductive material, and the inner surface of the cavity is made rough for the evaporating material to be diffused.
(FR)
La présente invention porte sur un appareil de déposition à évaporation. L'appareil comprend : une entrée à travers laquelle de la vapeur est fournie ; un écran qui est disposé au voisinage de l'entrée de façon à changer la direction de la vapeur ; une cavité sphérique ou elliptique qui réfléchit la vapeur ; une sphère d'intégration qui a une sortie à travers laquelle la vapeur réfléchie ou diffusée une pluralité de fois dans la cavité est déchargée radialement par une source ponctuelle ; un creuset dans lequel un matériau d'évaporation est introduit, le creuset fournissant la vapeur évaporée à travers une première ouverture vers l'entrée de la sphère d'intégration ; et une unité de chauffage qui est agencée de façon à entourer la sphère d'intégration et le creuset de façon à chauffer le creuset et la sphère d'intégration. La sphère d'intégration est constituée en un matériau conducteur, et la surface interne de la cavité est rendue rugueuse pour que le matériau d'évaporation soit diffusé.
(KO)
본 발명은 증발 증착 장치를 제공한다. 이 장치는 증기를 제공받는 입구, 입구의 주위에 배치되어 증기의 방향을 전환하는 배플, 증기를 반사시키는 구형 또는 타원형의 케비티, 및 케비티에서 복수 회 반사 또는 산란된 증기를 점원에 의한 방사형으로 토출하는 출구를 포함하는 적분구, 내부에 증발물질이 담기고 제1 개구부를 통하여 증발된 증기를 적분구의 입구에 제공하는 도가니, 및 적분구 및 도가니를 감싸도록 배치되어 도가니 및 적분구를 가열하는 가열부를 포함하고, 적분구는 도전성 물질로 형성되고, 케비티의 내부 표면은 거칠어 증발 물질이 산란된다.
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