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1. (WO2014024729) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CELLULES SOLAIRES, ET CELLULE SOLAIRE PRODUITE PAR LEDIT PROCÉDÉ DE PRODUCTION

Pub. No.:    WO/2014/024729    International Application No.:    PCT/JP2013/070564
Publication Date: 13 févr. 2014 International Filing Date: 30 juil. 2013
IPC: H01L 31/04
Applicants: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
信越化学工業株式会社
Inventors: TAKAHASHI Mitsuhito
高橋 光人
WATABE Takenori
渡部 武紀
OTSUKA Hiroyuki
大塚 寛之
Title: PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CELLULES SOLAIRES, ET CELLULE SOLAIRE PRODUITE PAR LEDIT PROCÉDÉ DE PRODUCTION
Abstract:
La présente invention concerne un procédé de production de cellules solaires faisant intervenir une étape de production consistant à former un film antireflets comportant du nitrure de silicium, ledit film antireflets ayant un excellent effet de passivation. Le procédé de production de cellules solaires est caractérisé en ce qu'un appareil (100) de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) par plasma distant est utilisé pour former un premier film de nitrure de silicium sur un substrat semiconducteur (102) à l'aide de l'écoulement de plasma provenant d'une première chambre (111) à plasma, tout en transportant le substrat semiconducteur (102) dans une chambre (101) de dépôt, puis pour former un deuxième film de nitrure de silicium, qui présente une composition différente de celle du premier film de nitrure de silicium, à l'aide de l'écoulement de plasma provenant d'une deuxième chambre (112) à plasma, dans laquelle du gaz ammoniac et du gaz silane ont été introduits à un rapport de débit différente de celui de la première chambre (111) à plasma. L'appareil (100) de CVD par plasma distant comprend la chambre (101) de dépôt; les chambres (111, 112) à plasma, qui comportent des parties (111a, 112a) d'excitation qui excitent le gaz ammoniac et des parties (111b, 112b) de réaction d'activation qui activent le gaz ammoniac excité en y introduisant du gaz silane; et un régulateur (113) de débit qui régule le rapport de débit du gaz ammoniac et du gaz silane pour chacune des chambres (111, 112) à plasma.