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1. (WO2014017663) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU SENSIBLE AUX RAYONNEMENTS, FILM DE RÉSERVE L'UTILISANT, PROCÉDÉ FORMANT MOTIF, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE, DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ET RÉSINE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/017663    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/070828
Date de publication : 30.01.2014 Date de dépôt international : 25.07.2013
CIB :
G03F 7/038 (2006.01), C08F 20/26 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventeurs : YOKOKAWA, Natsumi; (JP).
HIRANO, Shuji; (JP).
TAKIZAWA, Hiroo; (JP).
NIHASHI, Wataru; (JP)
Mandataire : TAKAMATSU, Takeshi; Koh-Ei Patent Firm, Toranomon East Bldg. 9F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-167818 27.07.2012 JP
2013-054399 15.03.2013 JP
Titre (EN) ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME, PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE, ELECTRONIC DEVICE AND RESIN
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU SENSIBLE AUX RAYONNEMENTS, FILM DE RÉSERVE L'UTILISANT, PROCÉDÉ FORMANT MOTIF, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE, DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ET RÉSINE
Abrégé : front page image
(EN)There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising (P) a resin having (a) a repeating unit represented by the specific formula; a resist film formed using the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition; a pattern forming method comprising (i) a step of forming a film by using the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, (ii) a step of exposing the film, and (iii) a step of developing the exposed film by using a developer to form a pattern; a method for manufacturing an electronic device, comprising the pattern forming method; and an electronic device manufactured by the manufacturing method of an electronic device.
(FR)La présente invention porte sur une composition de résine sensible aux rayons actiniques ou sensible aux rayonnements comprenant (P) une résine ayant (a) une unité structurale représentée par la formule spécifique ; un film de réserve formé à l'aide de la composition de résine sensible aux rayons actiniques ou sensible aux rayonnements ; un procédé formant motif comprenant (i) une étape de formation d'un film à l'aide de la composition de résine sensible aux rayons actiniques ou sensible aux rayonnements, (ii) une étape d'exposition du film et (iii) une étape de développement du film exposé à l'aide d'un développeur pour former un motif ; un procédé de fabrication de dispositif électronique, comprenant le procédé formant motif ; et un dispositif électronique fabriqué par le procédé de fabrication de dispositif électronique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)